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1. (WO2014015540) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU AYANT CELLULE PHOTOVOLTAÏQUE INTÉGRÉE ET SUBSTRAT DE RÉSEAU FABRIQUÉ EN UTILISANT CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/015540    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/079903
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 10.08.2012
CIB :
G02F 1/1362 (2006.01), H01L 31/042 (2014.01), H01L 31/18 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; NO.9-2, Tangming Road, Guangming district of Shenzhen, Guangdong 518132 (CN) (Tous Sauf US).
ZHANG, Xindi [CN/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : ZHANG, Xindi; (CN)
Mandataire : COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; Room 307,Floor 3 Block 1 News Building,ShennanZhongRoad Shenzhen, Guangdong 518027 (CN)
Données relatives à la priorité :
201210264249.4 27.07.2012 CN
Titre (EN) METHOD OF FABRICATING ARRAY SUBSTRATE HAVING EMBEDDED PHOTOVOLTAIC CELL AND ARRAY SUBSTRATE FABRICATED USING SAME
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU AYANT CELLULE PHOTOVOLTAÏQUE INTÉGRÉE ET SUBSTRAT DE RÉSEAU FABRIQUÉ EN UTILISANT CELUI-CI
(ZH) 具有嵌入式光伏电池的阵列基板的制作方法及其制得的阵列基板
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a method of fabricating an array substrate having an embedded photovoltaic cell and an array substrate fabricated using same. The fabrication method comprises the following steps: Step 1, providing a substrate; Step 2, forming a transparent conductive layer on the substrate; Step 3, forming a conductivity enhancement layer on the transparent conductive layer; Step 4, forming a photovoltaic cell layer on the conductivity enhancement layer; Step 5, forming a metal layer on the photovoltaic cell layer; Step 6, forming openings on the metal layer, the photovoltaic cell layer, the conductivity enhancement layer, and the transparent conductive layer through a photomask process; Step 7, forming a transparent insulating layer on the metal layer; and Step 8, forming a thin-film transistor (TFT) array on the transparent insulating layer. The present invention forms a photovoltaic cell on a substrate and forms a TFT array on the photovoltaic cell to insert the photovoltaic cell in an array substrate through a simple process, so as to further supply power to liquid crystal display panel components or parts using light rays emitted by a backlight source and make full use of light energy emitted by the backlight source, thereby reducing the consumption of external electric power.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat de réseau ayant une cellule photovoltaïque intégrée et un substrat de réseau fabriqué en utilisant celui-ci. Le procédé de fabrication comprend les étapes suivantes : étape 1, fournir un substrat; étape 2, former une couche conductrice transparente sur le substrat; étape 3, former une couche d'amélioration de conductivité sur la couche conductrice transparente; étape 4, former une couche de cellule photovoltaïque sur la couche d'amélioration de conductivité; étape 5, former une couche métallique sur la couche de cellule photovoltaïque; étape 6, former des ouvertures sur la couche métallique, la couche de cellule photovoltaïque, la couche d'amélioration de conductivité et la couche conductrice transparente par l'intermédiaire d'un processus de photomasquage; étape 7, former une couche d'isolation transparente sur la couche métallique; et étape 8, former un réseau de transistors en couches minces (TFT) sur la couche d'isolation transparente. La présente invention forme une cellule photovoltaïque sur un substrat et forme un réseau TFT sur la cellule photovoltaïque pour insérer la cellule photovoltaïque dans un substrat de réseau par l'intermédiaire d'un processus simple, de façon à fournir en outre de l'électricité à des composants de panneau d'affichage à cristaux liquides ou des parties utilisant des rayons lumineux émis par une source de rétro-éclairage et réaliser une pleine utilisation de l'énergie lumineuse émise par la source de rétro-éclairage, ce qui réduit la consommation d'énergie électrique externe.
(ZH)本发明提供一种具有嵌入式光伏电池的阵列基板的制作方法及其制得的阵列基板,所述制作方法包括以下步骤:步骤1、提供基板;步骤2、在基板上形成透明导电层;步骤3、在透明导电层上形成导电增强层;步骤4、在导电增强层上形成光伏层;步骤5、在光伏层形成金属层;步骤6、通过光罩制程在金属层、光伏层、导电增强层及透明导电层上形成开口;步骤7、在金属层上形成透明绝缘层;步骤8、在透明绝缘层上形成TFT阵列。本发明通过在基板上形成一光伏电池,在该光伏电池上形成TFT阵列,以简单的制程将光伏电池嵌入阵列基板中,进而利用背光源发出的光线为液晶显示面板元件或配件供电,充分利用背光源所发出的光能,节省了对外部电能的消耗。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)