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1. (WO2014010552) SYSTÈME OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE, DISPOSITIF D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/010552    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/068635
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 08.07.2013
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP)
Inventeurs : KITA Naonori; (JP)
Mandataire : YAMAGUCHI Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
61/669948 10.07.2012 US
61/719054 26.10.2012 US
Titre (EN) ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE, DISPOSITIF D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An illumination optical system in which the pupil intensity distribution at each point on an irradiated surface can be adjusted to the required distribution. The illumination optical system, which illuminates the irradiated surface using light from a light source, is provided with: a spatial light modulation element having a modulation action surface for setting the emission angle of emission light according to the incidence position of incident light, the spatial light modulation element being disposed on the light path between the light source and the irradiated surface; and a light collection optical system for guiding the emission light from the spatial light modulation element to a position on the irradiated surface corresponding to the emission position at which the emission light from the spatial light modulation element is emitted, and guiding the emission light from the spatial light modulation element to the abovementioned position on the irradiated surface at an angle corresponding to the set emission angle of the emission light from the emission position of the spatial light modulation element, the light collection optical system being disposed between the spatial light modulation element and the irradiated surface. A unit region of a scattering element emits, diagonally with respect to the optical axis of the unit region, a diagonally incident light beam, which is incident diagonally with respect to the optical axis of the unit region.
(FR)La présente invention porte sur un système optique d'éclairage dans lequel la distribution d'intensité de pupille à chaque point sur une surface irradiée peut être ajustée à la distribution requise. Le système optique d'éclairage, qui éclaire la surface irradiée en utilisant une lumière provenant d'une source de lumière, comporte : un élément de modulation de lumière spatiale ayant une surface d'action de modulation pour régler l'angle d'émission d'une lumière d'émission selon la position d'incidence d'une lumière incidente, l'élément de modulation de lumière spatiale étant disposé sur le chemin de lumière entre la source de lumière et la surface irradiée ; et un système optique de collecte de lumière pour guider la lumière d'émission depuis l'élément de modulation de lumière spatiale vers une position sur la surface irradiée correspondant à la position d'émission à laquelle la lumière d'émission de l'élément de modulation de lumière spatiale est émise, et guider la lumière d'émission depuis l'élément de modulation de lumière spatiale vers la position susmentionnée sur la surface irradiée à un angle correspondant à l'angle d'émission réglé de la lumière d'émission provenant de la position d'émission de l'élément de modulation de lumière spatiale, le système optique de collecte de lumière étant disposé entre l'élément de modulation de lumière spatiale et la surface irradiée. Une région d'unité d'un élément de diffusion émet, de manière diagonale par rapport à l'axe optique de la région d'unité, un faisceau de lumière diagonalement incident, qui est diagonalement incident par rapport à l'axe optique de la région d'unité.
(JA) 被照射面上の各点での瞳強度分布をそれぞれ所要の分布に調整することのできる照明光学系。光源からの光により被照射面を照明する照明光学系は、光源と被照射面との間の光路中に配置されて、入射光の入射位置に応じて射出光の射出角度を設定する変調作用面を持つ空間光変調素子と、空間光変調素子と被照射面との間に配置されて、空間光変調素子からの射出光が射出される射出位置に応じた被照射面上の位置に空間光変調素子からの射出光を導くと共に、空間光変調素子の射出位置からの射出光の設定された射出角度に応じた角度で被照射面上の上記位置に空間光変調素子からの射出光を導く集光光学系とを備えている。拡散素子の単位領域は、単位領域の光軸に対して斜めに入射する斜入射光束を単位領域の光軸に対して斜めに射出する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)