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1. (WO2014002794) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UN ÉLÉMENT STRATIFIÉ À FILM MINCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/002794    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/066463
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 14.06.2013
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
Inventeurs : NOMURA, Masanobu; (JP).
TAKESHIMA, Yutaka; (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-144453 27.06.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM LAMINATED ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UN ÉLÉMENT STRATIFIÉ À FILM MINCE
(JA) 薄膜積層素子の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a method for manufacturing a thin film laminated element, wherein alignment marks having less damage can be used for the purpose of aligning a photomask at the time of performing etching. This method for manufacturing a thin film laminated element is provided with: a second process wherein an element section (10) and alignment marks are formed on a thin film laminated body (7) by means of etching using photolithography; and a third process having a step for applying a photosensitive resist onto the thin film laminated body (7), a step for disposing on the photosensitive resist a photomask, which has alignment patterns, by aligning the photomask with the alignment patterns and the alignment marks formed in the previous process, a step for exposing and developing the photosensitive resist, and a step for forming the element section and the alignment marks on the thin film laminated body by etching the thin film laminated body having the photosensitive resist applied thereto.
(FR)La présente invention a pour objet de proposer un procédé permettant de fabriquer un élément stratifié à film mince, des marques d'alignement qui présentent peu de dommages, pouvant être utilisées dans le but d'aligner un masque photographique au moment de la réalisation d'une gravure. Ce procédé permettant de fabriquer un élément stratifié à film mince comprend : un deuxième processus selon lequel une section d'élément (10) et des marques d'alignement sont formées sur un corps stratifié à film mince (7) au moyen d'une gravure qui utilise la photolithographie ; et un troisième processus qui comprend une étape qui consiste à appliquer une réserve photosensible sur le corps stratifié à film mince (7), une étape consistant à disposer sur la réserve photosensible un masque photographique qui présente des motifs d'alignement, par alignement du masque photographique avec les motifs d'alignement et les marques d'alignement formées lors du précédent processus, une étape consistant à exposer et à développer la réserve photosensible et une étape consistant à former la section d'élément et les marques d'alignements sur le corps stratifié à film mince par gravure du corps stratifié à film mince qui comporte la réserve photosensible appliquée sur ce dernier.
(JA) 本発明の目的は、損傷の少ないアライメントマークをエッチングの際のフォトマスクの位置決めに使用が可能である薄膜積層素子の製造方法を提供することである。 本発明の薄膜積層素子の製造方法は、フォトリソグラフィを用いたエッチングにより、薄膜積層体7に素子部10およびアライメントマークを形成する第2の工程と、薄膜積層体7上に感光性レジストを塗布するステップと、アライメントパターンを有するフォトマスクを、アライメントパターンと前の工程で形成されたアライメントマークとの位置合わせにより、感光性レジスト上に配置するステップと、感光性レジストを露光し、現像するステップと、感光性レジストが塗布された薄膜積層体をエッチングすることにより、薄膜積層体に素子部およびアライメントマークを形成するステップとを有する第3の工程とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)