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1. WO2013187115 - DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES

Numéro de publication WO/2013/187115
Date de publication 19.12.2013
N° de la demande internationale PCT/JP2013/061010
Date du dépôt international 12.04.2013
CIB
H01J 37/21 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
21Moyens pour la mise au point
H01J 37/147 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
04Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
147Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
H01J 37/244 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
244Détecteurs; Composants ou circuits associés
CPC
H01J 2237/04756
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
04Means for controlling the discharge
047Changing particle velocity
0475decelerating
04756with electrostatic means
H01J 2237/0492
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
04Means for controlling the discharge
049Focusing means
0492Lens systems
H01J 2237/063
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
063Electron sources
H01J 2237/10
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
10Lenses
H01J 2237/15
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
15Means for deflecting or directing discharge
H01J 2237/21
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
21Focus adjustment
Déposants
  • 株式会社 日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 立花 一郎 TACHIBANA Ichiro
  • 鈴木 直正 SUZUKI Naomasa
Mandataires
  • 井上 学 INOUE Manabu
Données relatives à la priorité
2012-13529715.06.2012JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置
Abrégé
(EN) In a case where a signal electron is subject to energy selection and detected by performing control by combining retarding and boosting for deep hole observation and the like, there is no choice but to use the magnetic field change of an objective lens for focus adjustment, but because magnetic field change has poor responsivity, through-put is reduced. In the present invention, the following are provided: an electron source for generating a primary electron beam; an objective lens for converging the primary electron beam; a deflector for deflecting the primary electron beam; a detector for detecting reflected electrons and secondary electrons emitted from a sample as a result of the emission of the primary electron beam; an electrode having a hole through which the primary electron beam passes; a voltage control power source for applying a negative voltage to the electrode; and a retarding voltage control power source for generating on the sample an electrical field that decelerates the primary electron beam by applying the negative voltage to the sample. Focal adjustment is carried out in a state where the difference between the voltage applied to the electrode and the voltage applied to the sample is made constant.
(FR) Lorsqu'un électron de signal est l'objet d'une sélection énergétique et détecté en effectuant la commande en combinant le retardement et l'accélération pour l'observation de trous profonds et similaire, il n'existe pas d'autre choix que d'utiliser le changement du champ magnétique d'une lentille d'objectif pour l'ajustement du point focal, mais du fait que le changement du champ magnétique présente une faible capacité de réponse, le débit se trouve réduit. Le système selon l'invention comprend : une source d'électrons qui génère un faisceau d'électrons primaires ; une lentille d'objectif qui met en convergence le faisceau d'électrons primaires ; un déflecteur qui dévie le faisceau d'électrons primaires ; un détecteur qui détecte les électrons réfléchis et les électrons secondaires émis à partir d'un échantillon sous l'effet de l'émission du faisceau d'électrons primaires ; une électrode munie d'un trou par lequel passe le faisceau d'électrons primaires ; une source d'énergie de commande de tension qui applique une tension négative à l'électrode ; et une source d'énergie de commande de tension de retardement qui génère sur l'échantillon un champ électrique qui ralentit le faisceau d'électrons primaires, en appliquant la tension négative à l'échantillon. L'ajustement du point focal est effectué dans un état dans lequel la différence entre la tension appliquée à l'électrode et la tension appliquée à l'échantillon est maintenue constante.
(JA)  深穴観察等のためにリターディングとブースティングを組み合わせて制御することで信号電子をエネルギー選択して検出する場合、フォーカス調整には対物レンズの磁場変化を使うしかないが、磁場変化は応答性が悪いため、スループットが低下してしまう。 一次電子線を発生する電子源と、前記一次電子線を集束する対物レンズと、前記一次電子線を偏向させる偏向器と、前記一次電子線の照射によって試料から発生する二次電子又は反射電子を検出する検出器と、前記一次電子線が通過する孔を有する電極と、前記電極に負電圧を印加する電圧制御電源と、前記試料に負電圧を印加することで前記試料上に前記一次電子線を減速させる電界を生成するリターディング電圧制御電源と、を備え、前記電極に印加される電圧と前記試料に印加される電圧との差を一定にしたまま焦点調整を行う。
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