WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2013180010) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, SYSTÈME DE MESURE DE LA TEMPÉRATURE, PROCÉDÉ DE MESURE DE LA TEMPÉRATURE D'UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT, DISPOSITIF DE TRANSPORT ET SUPPORT DE MÉMOIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/180010    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/064380
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 23.05.2013
CIB :
H01L 21/31 (2006.01), H01L 21/22 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. [JP/JP]; 14-1, Sotokanda 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1018980 (JP)
Inventeurs : WATANABE, Akihito; (JP).
MIYASHITA, Naoya; (JP).
TAKASHIMA, Katsumi; (JP).
HONDA, Shigeru; (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-121203 28.05.2012 JP
Titre (EN) SUBSTRATE TREATMENT DEVICE, TEMPERATURE MEASUREMENT SYSTEM, METHOD FOR MEASURING TEMPERATURE OF TREATMENT DEVICE, TRANSPORTATION DEVICE, AND MEMORY MEDIUM
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, SYSTÈME DE MESURE DE LA TEMPÉRATURE, PROCÉDÉ DE MESURE DE LA TEMPÉRATURE D'UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT, DISPOSITIF DE TRANSPORT ET SUPPORT DE MÉMOIRE
(JA) 基板処理装置、温度計測システム、処理装置の温度計測方法、搬送装置及び記録媒体
Abrégé : front page image
(EN)In order to improve the workability of measuring the temperature soaking region in the treatment furnace and improve the reliability of the soaking length of the heater, this invention provides a substrate treatment device having: a treatment chamber for treating a substrate loaded in a state of being held by a holding tool; a temperature measuring instrument for measuring the temperature in the treatment chamber; a transportation device for transporting the substrate at least to the holding tool; and a controller for moving the transportation device to a preset position before the temperature in the treatment chamber is measured, and acquiring the temperature from the temperature measuring instrument while raising/lowering the transportation device in a state in which the temperature measuring instrument is attached when the temperature in the treatment chamber is measured.
(FR)Afin d'améliorer l'aptitude au façonnage de la mesure de la température de la région de trempage dans le four de traitement et d'améliorer la fiabilité de la longueur de trempage du dispositif de chauffage, la présente invention a trait à un dispositif de traitement de substrat qui est doté : d'une chambre de traitement permettant de traiter un substrat qui est chargé de manière à être maintenu par un outil de retenue ; d'un instrument de mesure de la température permettant de mesurer la température dans la chambre de traitement ; d'un dispositif de transport permettant de transporter le substrat au moins jusqu'à l'outil de retenue ; et d'un organe de commande permettant de déplacer le dispositif de transport vers une position prédéfinie avant que la température dans la chambre de traitement ne soit mesurée, et d'acquérir la température à partir de l'instrument de mesure de la température tout en soulevant/abaissant le dispositif de transport dans un état où l'instrument de mesure de la température est attaché lorsque la température dans la chambre de traitement est mesurée.
(JA)処理炉内の温度均熱領域の測定の作業性を向上し、且つ、ヒータの均熱長の信頼性を向上するために、保持具に保持した状態で装入された基板を処理する処理室と、前記処理室内の温度を計測する温度計測器と、少なくとも前記保持具に前記基板を搬送する搬送装置と、前記処理室内の温度を計測する前に、前記搬送装置を、予め設定された位置に移動させ、前記処理室内の温度を計測する際に、前記温度計測器を取り付けた状態で前記搬送装置を昇降させながら、前記温度計測器からの温度を取得するコントローラと、を有する基板処理装置が提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)