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1. (WO2013179355) ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT, TRANSISTOR ET CLOISON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/179355    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/003617
Date de publication : 05.12.2013 Date de dépôt international : 31.05.2012
CIB :
H05B 33/22 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/02 (2006.01), H05B 33/12 (2006.01), H05B 33/14 (2006.01)
Déposants : PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (Tous Sauf US).
SEKIMOTO, Yasuhiro; (US Seulement)
Inventeurs : SEKIMOTO, Yasuhiro;
Mandataire : NAKAJIMA, Shiro; 6F, Yodogawa 5-Bankan, 2-1, Toyosaki 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5310072 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LIGHT-EMITTING ELEMENT, TRANSISTOR, AND PARTITION WALL
(FR) ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT, TRANSISTOR ET CLOISON
(JA) 発光素子、トランジスタおよび隔壁
Abrégé : front page image
(EN)In order to provide a light-emitting element for which non-wetting in an ink instillation region does not easily occur, the present invention has: an underlayer (110) containing first electrodes (102); partition walls (105) that define aperture parts on the underlayer (110), said aperture parts being formed with a shape having a long axis and a short axis; functional layers (106) that are positioned within the aperture parts and make contact with the upper surface of the underlayer (110); and a second electrode (108) that opposes the first electrodes (102) with the functional layers (106) therebetween. In addition, in a cross section along the long axis of the aperture parts and perpendicular to the upper surface of the underlayer (110), the partition walls (105) have an upper surface (105b), which is located at a height of h0, and a peripheral surface (105c), which is connected to the upper surface (105b) of the partition wall (105) and surrounds the aperture parts and is located at a height of h which is less than the height h0, when the upper surface of the underlayer (110) is taken as a reference. In addition, when the height h of the peripheral surface (105c) is quadratically differentiated with the distance x from the boundary (32) between the upper surface (105b) and the peripheral surface (105c) of the partition walls (105) in the direction along the long axis, the resulting value is continuous at the boundary (32) between the upper surface (105b) and the peripheral surface (105c) of the partition walls (105), and the displacement point, wherein the value changes from near 0 to a negative value, is located at a height of 0.9h or greater, and the upper surface of the functional layers (106) makes contact with the peripheral surface (105c) in the vicinity of the displacement point.
(FR)Afin de fournir un élément électroluminescent pour lequel le non mouillage dans une région d'instillation d'encre ne se produit pas facilement, la présente invention est équipée : d'une sous-couche (110) qui contient des premières électrodes (102) ; de cloisons (105) qui définissent des parties d'ouverture sur la sous-couche (110), lesdites parties d'ouverture étant formées de manière à présenter une forme dotée d'un axe long et d'un axe court ; de couches fonctionnelles (106) qui sont positionnées à l'intérieur des parties d'ouverture et qui entrent en contact avec la surface supérieure de la sous-couche (110) ; et d'une seconde électrode (108) qui se trouve à l'opposé des premières électrodes (102), les couches fonctionnelles (106) étant disposées entre celles-ci. De plus, dans une coupe transversale le long de l'axe long des parties d'ouverture et perpendiculaire à la surface supérieure de la sous-couche (110), les cloisons (105) sont dotées d'une surface supérieure (105b), qui se trouve à une hauteur h0, et d'une surface périphérique (105c), qui est connectée à la surface supérieure (105b) de la cloison (105) et qui entoure les parties d'ouverture et est située à une hauteur h qui est inférieure à la hauteur h0, lorsque la surface supérieure de la sous-couche (110) est prise en tant que référence. De plus, lorsque la hauteur h de la surface périphérique (105c) est quadratiquement différentiée de la distance x à partir de la limite (32) entre la surface supérieure (105b) et la surface périphérique (105c) des cloisons (105) dans la direction le long de l'axe long, la valeur résultante est continue à la limite (32) entre la surface supérieure (105b) et la surface périphérique (105c) des cloisons (105), et le point de déplacement, où la valeur passe d'une valeur proche de 0 à une valeur négative, est situé à une hauteur supérieure ou égale à 0,9h, et la surface supérieure des couches fonctionnelles (106) entre en contact avec la surface périphérique (105c) à proximité du point de déplacement.
(JA)インク滴下領域において未濡れが発生し難い発光素子を提供することを目的とし、第1の電極102を含む下地層110と、長軸と短軸を有する形状からなる開口部を、前記下地層110上に規定する隔壁105と、前記開口部内に位置し、前記下地層110の上面と接する機能層106と、前記機能層106を介して前記第1の電極102と対向する第2の電極108と、を有し、前記隔壁105は、前記開口部の長軸に沿ってかつ前記下地層110の上面に垂直な断面において、前記下地層110の上面を基準としたときに、高さh0に位置する上面105bと、前記隔壁105の上面105bと連続して前記h0未満の高さhに位置する前記開口部を臨む周面105cを有し、前記周面105cの高さhを、前記長軸に沿った方向における前記隔壁105の上面105bと周面105cとの境界32からの距離xで2次微分した値が、前記隔壁105の上面105bと前記周面105cとの境界32において連続しており、かつ、0近傍から負に変位する変位点が、高さ0.9h以上に位置し、前記機能層106の上面が、前記変位点の近傍において前記周面105cと接している構成とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)