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1. WO2013170455 - FILM DE CRISTAL DE SCINTILLATION PIXÉLISÉ ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET APPLICATION DE CELUI-CI

Numéro de publication WO/2013/170455
Date de publication 21.11.2013
N° de la demande internationale PCT/CN2012/075570
Date du dépôt international 16.05.2012
CIB
G01T 1/20 2006.1
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
TMESURE DES RADIATIONS NUCLÉAIRES OU DES RAYONS X
1Mesure des rayons X, des rayons gamma, des radiations corpusculaires ou des radiations cosmiques
16Mesure de l'intensité de radiation
20avec des détecteurs à scintillation
CPC
G01T 1/202
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
TMEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
1Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
16Measuring radiation intensity
20with scintillation detectors
202the detector being a crystal
G21K 4/00
GPHYSICS
21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
4Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
Déposants
  • 吉林省锐意美科技有限公司 JILIN RAY-IMAGE TECHNOLOGY CO., LTD. [CN]/[CN] (AllExceptUS)
  • 李秋莹 LI, Qiuying [CN]/[CN] (UsOnly)
  • 于波 YU, Bo [CN]/[CN] (UsOnly)
  • 于洪波 YU, Hongbo [CN]/[CN] (UsOnly)
Inventeurs
  • 李秋莹 LI, Qiuying
  • 于波 YU, Bo
  • 于洪波 YU, Hongbo
Mandataires
  • 北京市金杜律师事务所 KING & WOOD MALLESONS
Données relatives à la priorité
Langue de publication Chinois (zh)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) PIXELIZED SCINTILLATION CRYSTAL FILM, AND PREPARATION METHOD AND APPLICATION THEREOF
(FR) FILM DE CRISTAL DE SCINTILLATION PIXÉLISÉ ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET APPLICATION DE CELUI-CI
(ZH) 像素化闪烁晶体薄膜及其制备和应用
Abrégé
(EN) A pixelized scintillation crystal film, and a preparation method and application thereof. The pixelized scintillation crystal film comprises: a surface pixelization substrate (1) with a surface formed by pixel unit areas (2) isolated from each other and isolation belt areas (3) located between pixel units; and a scintillation crystal (5, 6) located on the surface pixelization substrate. The scintillation crystal on the pixel unit area (2) has a first morphology. At least one isolation belt (4) exists in the isolation belt area (3). The scintillation crystal (5, 6) on the isolation belt (4) has a morphology different from the first morphology. The pixelized scintillation crystal film prepared by using a surface induced self-isolation technology can reduce visible light interferences between adjacent pixels, and effectively improve the spatial resolution during the film imaging. The film has a simple preparation process and can be easily integrated with an existing optoelectronic detection system, thereby implementing digital detection.
(FR) La présente invention porte sur un film de cristal de scintillation pixélisé et un procédé de préparation et une application de celui-ci. Le film de cristal de scintillation pixélisé comprend : un substrat de pixellisation de surface (1) ayant une surface formée par des zones d'unité de pixel (2) isolées les unes des autres et des zones de ceinture d'isolation (3) situées entre des unités de pixel; et un cristal de scintillation (5, 6) situé sur le substrat de pixellisation de surface. Le cristal de scintillation sur la zone d'unité de pixel (2) a une première morphologie. Au moins une ceinture d'isolation (4) existe dans la zone de ceinture d'isolation (3). Le cristal de scintillation (5, 6) sur la ceinture d'isolation (4) a une morphologie différente de la première morphologie. Le film de cristal de scintillation pixellisé préparé à l'aide d'une technologie d'auto-isolation induite par surface peut réduire des interférences de lumière visible entre des pixels adjacents et améliorer de manière efficace la résolution spatiale durant l'imagerie de film. Le film a un processus de préparation simple et peut être facilement intégré à un système de détection optoélectronique existant, mettant ainsi en œuvre une détection numérique.
(ZH) 一种像素化闪烁晶体薄膜及其制备方法和应用,包括:表面像素化基板(1),所述表面像素化基板(1)的表面由彼此分离的像素单元区(2)和位于像素单元间的隔离带区(3)构成;和闪烁晶体(5,6),其位于表面像素化基板上;在所述像素单元区(2)上的闪烁晶体具有第一形貌,所述隔离带区(3)内存在至少一条隔离带(4),在所述隔离带(4)上的闪烁晶体(5,6)具有和所述第一形貌不同的形貌。利用表面诱导自隔离技术制备的像素化闪烁晶体薄膜,可以减少相邻像素间可见光的干扰,有效提高薄膜成像时的空间分辨率。该薄膜的制备工艺简单,易于和现有光电检测系统集成,实现数字化检测。
Documents de brevet associés
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