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1. WO2013168456 - DISPOSITIF DE MESURE DE POSITION DE SURFACE, DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF

Numéro de publication WO/2013/168456
Date de publication 14.11.2013
N° de la demande internationale PCT/JP2013/055913
Date du dépôt international 05.03.2013
CIB
H01L 21/027 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
G03F 7/20 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 9/7034
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
9Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
70for microlithography
7003Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
7023Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
7034Leveling
Déposants
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 日高 康弘 HIDAKA Yasuhiro
Mandataires
  • 山口 孝雄 YAMAGUCHI Takao
Données relatives à la priorité
2012-10587507.05.2012JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) SURFACE POSITION MEASUREMENT DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE MESURE DE POSITION DE SURFACE, DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
(JA) 面位置計測装置、露光装置、およびデバイス製造方法
Abrégé
(EN) A surface position measurement device wherein it is possible to measure the surface position of a surface to be detected with high accuracy while minimizing the measurement error caused by the reflectance distribution at the surface to be detected. The surface position measurement device is provided with: a transmission optical system which obliquely emits a first measurement beam from a first pattern and a second measurement beam from a second pattern to the measurement surface on the surface to be detected and which forms an intermediate image of the first pattern and an intermediate image of the second pattern on the measurement region by overlapping said intermediate images; a reception optical system which guides the first measurement beam and the second measurement beam that reflected off the surface to be detected to a first detection surface and a second detection surface and which forms an observation image of the first pattern and an observation image of the second pattern on the first detection surface and the second detection surface; and a detection system which obtains the surface position of the measurement region on the basis of the detection result of the observation image of the first pattern and the detection result of the observation image of the second pattern. A first light quantity distribution of the intermediate image of the first pattern and a second quantity distribution of the intermediate image of the second pattern are different from one another, the first and second light quantity distributions being along a predetermined direction.
(FR) L'invention concerne un dispositif de mesure de position de surface permettant de mesurer la position d'une surface à détecter avec une grande précision tout en limitant les erreurs de mesure causées par la distribution du facteur de réflexion sur la surface à détecter. Le dispositif de mesure de position de surface comprend : un système de transmission optique qui émet de manière oblique un premier faisceau de mesure à partir d'un premier motif et un second faisceau de mesure à partir d'un second motif sur la surface de mesure à détecter, et qui forme une image intermédiaire du premier motif et une image intermédiaire du second motif sur la région de mesure par chevauchement des images intermédiaires ; un système de réception optique qui guide le premier faisceau de mesure et le second faisceau de mesure réfléchis par la surface à détecter vers une première surface de détection et une seconde surface de détection, et qui forme une image d'observation du premier motif et une image d'observation du second motif sur la première surface de détection et sur la seconde surface de détection ; et un système de détection qui obtient la position de la surface de la région de mesure en fonction du résultat de détection de l'image d'observation du premier motif et du résultat de détection de l'image d'observation du second motif. Une première distribution de quantité de lumière de l'image intermédiaire du premier motif et une seconde distribution de quantité de lumière de l'image intermédiaire du second motif sont différentes l'une de l'autre, la première et la seconde distribution de quantité de lumière s'effectuant dans un sens prédéterminé.
(JA)  被検面での反射率分布に起因する計測誤差を小さく抑えて、被検面の面位置を高精度に計測することのできる面位置計測装置。第1パターンからの第1測定ビームおよび第2パターンからの第2測定ビームを被検面上の計測領域に斜入射させて、該計測領域に第1パターンの中間像と第2パターンの中間像とを重ねて形成する送光系と、被検面で反射された第1測定ビームおよび第2測定ビームを第1検出面および第2検出面へ導いて、第1検出面および第2検出面に第1パターンの観測像および第2パターンの観測像を形成する受光系と、第1パターンの観測像の検出結果と第2パターンの観測像の検出結果とに基づいて計測領域の面位置を求める検出系とを備えている。所定方向に沿った第1パターンの中間像の第1の光量分布と第2パターンの中間像の第2の光量分布とは、互いに異なる光量分布である。
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