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N° de publication :    WO/2013/058215    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/076628
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 15.10.2012
G06F 19/00 (2011.01), G06F 17/50 (2006.01)
Déposants : JAPAN AGENCY FOR MARINE-EARTH SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 2-15, Natsushima-cho, Yokosuka-shi, Kanagawa 2370061 (JP)
Inventeurs : SAKAGUCHI Hide; (JP).
NISHIURA Daisuke; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-228247 17.10.2011 JP
(JA) 解析装置、解析方法、解析プログラム及び記録媒体
Abrégé : front page image
(EN)The present invention performs high-speed analysis taking into account collisions and/or contact between plasmodia and the deformation of the plasmodium itself even when there are numerous plasmodia. An analysis device (10) is adapted for analyzing the motion of a plasmodium, and is provided with: a model generator (12) for generating a model of a plasmodium in which there is disposed a plurality of virtual particles for configuring the apex of a tetrahedron, the center of which partitions the plasmodium; a first force calculator (13) for calculating a first force occurring between the particles, which are disposed on the surface of the plasmodium and are not adjacent to one another; a second force calculator (14) for calculating a second force occurring in each particle based on stress and a surface for partitioning the tetrahedron; and a particle location updating part(15) for calculating a force occurring in each particle by obtaining the sum of the first force and the second force, and updating the location of each particle by solving a motion equation.
(FR)L'invention effectue une analyse à haute vitesse tenant compte des collisions et/ou du contact entre des plasmodies et de la déformation de la plasmodie elle-même même lorsqu'il y a plusieurs plasmodies. Un dispositif d'analyse (10) est conçu pour analyser le mouvement d'une plasmodie, et comprend : un générateur de modèle (12) permettant de générer un modèle d'une plasmodie dans lequel est disposée une pluralité de particules virtuelles pour configurer le sommet d'un tétraèdre dont le centre partitionne la plasmodie ; un premier calculateur de force (13) permettant de calculer une première force se produisant entre les particules, qui sont disposées à la surface de la plasmodie et ne sont pas adjacentes l'une à l'autre ; un second calculateur de force (14) permettant de calculer une seconde force se produisant dans chaque particule d'après la contrainte et une surface permettant de partitionner le tétraèdre ; et une partie de mise à jour d'emplacement de particule (15) permettant de calculer une force se produisant dans chaque particule en obtenant la somme de la première force et de la seconde force, et de mettre à jour l'emplacement de chaque particule en résolvant une équation de mouvement.
(JA) 変形体が多い場合でも変形体間の衝突や接触と変形体自体の変形との両方を考慮して高速に解析を行う。 解析装置10は、変形体の運動の解析を行う装置であって、中心が変形体を分割する四面体の頂点を構成する複数の仮想的な粒子が設けられた変形体のモデルを生成するモデル生成部12と、変形体の表面に設けられると共に互いに隣接しない粒子の間に生じる第1の力を算出する第1の力算出部13と、変形体を分割する四面体に生じる応力を算出し、当該四面体を分割する面と応力とから各粒子に生じる第2の力を算出する第2の力算出部14と、第1の力と第2の力との和を取ることで各粒子に生じる力を算出して運動方程式を解くことで各粒子の位置を更新する粒子位置更新部15とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)