JP2012076408 COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE POSITIVE, ARTICLE DURCI AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF EN RÉSINE, ET ÉLÉMENT OPTIQUE

1. (WO2013054870) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE POSITIVE, ARTICLE DURCI AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF EN RÉSINE, ET ÉLÉMENT OPTIQUE

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N° de publication :		WO/2013/054870		N° de la demande internationale :		PCT/JP2012/076408
Date de publication :		18.04.2013		Date de dépôt international :		12.10.2012

CIB :

G03F 7/039 (2006.01), C08F 220/26 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)

Déposants :

FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)

Inventeurs :

FUJIMORI Junichi; (JP).
SHIMONO Katsuhiro; (JP).
KUBOTA Makoto; (JP).
SUZUKI Shigekazu; (JP)

Mandataire :

NOGUCHI Yasuhiro; NOGUCHI PATENT FIRM, Urban Toranomon Bldg., 16-4, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)

Données relatives à la priorité :

2011-224474

12.10.2011

Titre

(EN) POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED PRODUCT, METHOD FOR PRODUCING RESIN PATTERN, CURED PRODUCT, AND OPTICAL MEMBER
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE POSITIVE, ARTICLE DURCI AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF EN RÉSINE, ET ÉLÉMENT OPTIQUE
(JA) ポジ型感光性樹脂組成物、硬化物の製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化物及び光学部材

Abrégé :

(EN)The purpose of the present invention is to provide a positive photosensitive resin composition with which dissolution of unexposed portions during development can be prevented. The positive photosensitive resin composition of the present invention is characterized in comprising (component A) inorganic particles, (component B)a dispersant having acid groups, (component C) a solvent, (component D) a polymer comprising (a-1) structural units having groups that are eliminated in the presence of acid and/or heat and (a-2) structural units having crosslinkable groups, and (component E)a photoacid generator, wherein the acid value of component D is 50 mg KOH/g or less.
(FR)L'invention a pour objectif de fournir une composition de résine photosensible de type positive permettant d'inhiber la dissolution d'une partie non exposée pendant un développement. Cette composition de résine photosensible de type positive comprend : des particules inorganiques (composant A); un agent de dispersion possédant un radical à fonction acide (composant B); un solvant (composant C); un polymère qui possède une unité structurale ayant un groupe se détachant sous l'effet d'un acide et/ou de la chaleur (a-1), et une unité structurale ayant un groupe réticulable (a-2) (composant D); et un agent générateur de photo-acide (composant E). La composition de résine photosensible de type positive est caractéristique en ce que l'indice d'acidité du composant (D) est inférieur ou égal à 50mgKOH/g.
(JA)　現像時における未露光部の溶解を抑制することができるポジ型感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。　本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、（成分Ａ）無機粒子、（成分Ｂ）酸基を有する分散剤、（成分Ｃ）溶剤、（成分Ｄ）（ａ－１）酸及び／又は熱によって脱離する基を有する構成単位と（ａ－２）架橋性基を有する構成単位とを有する重合体、並びに、（成分Ｅ）光酸発生剤を含有し、成分Ｄの酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることを特徴とする。

États désignés :

AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).

Langue de publication :	japonais (JA)
Langue de dépôt :	japonais (JA)

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