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1. (WO2013047553) PROCÉDÉ PERMETTANT DE PRODUIRE UN DISPOSITIF D'ENTRÉE CAPACITIF, DISPOSITIF D'ENTRÉE CAPACITIF, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE POURVU DUDIT DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/047553    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/074638
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 26.09.2012
CIB :
G06F 3/044 (2006.01), G06F 3/041 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP)
Inventeurs : KODAMA Tomohiro; (JP).
TAKEUTI Kou; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-215794 30.09.2011 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING CAPACITIVE INPUT DEVICE, CAPACITIVE INPUT DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH SAME
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE PRODUIRE UN DISPOSITIF D'ENTRÉE CAPACITIF, DISPOSITIF D'ENTRÉE CAPACITIF, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE POURVU DUDIT DISPOSITIF
(JA) 静電容量型入力装置の製造方法および静電容量型入力装置、並びに、これを備えた画像表示装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for producing a capacitive input device which comprises a front plate and, provided on a non-contact side of the front plate, (1) a mask layer, (2) a plurality of first transparent electrode patterns, (3) a plurality of second transparent electrode patterns, (4) an insulation layer which electrically insulates the first transparent electrode patterns and the second transparent electrode patterns, and (5) a conductive element which is electrically connected to the first transparent electrode patterns and/or the second transparent electrode patterns and which is different from the first transparent electrode patterns and the second transparent electrode patterns, wherein a photosensitive film comprising a provisional support, a thermoplastic resin layer, and a photo-curable resin layer in that order is used to form at least one of (1) to (5). A high quality capacitive input device can be produced by these simple steps.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de produire un dispositif d'entrée capacitif qui comprend une plaque avant et, sur une face sans contact de la plaque avant, (1) une couche de masque, (2) une pluralité de premiers motifs d'électrodes transparentes, (3) une pluralité de seconds motifs d'électrodes transparentes, (4) une couche d'isolation qui isole de façon électrique les premiers motifs d'électrodes transparentes et les seconds motifs d'électrodes transparentes, et (5) un élément conducteur qui est connecté de façon électrique aux premiers motifs d'électrodes transparentes et/ou aux seconds motifs d'électrodes transparentes et qui diffère des premiers motifs d'électrodes transparentes et des seconds motifs d'électrodes transparentes, un film photosensible comprenant un support provisoire, une couche de résine thermoplastique et une couche de résine photodurcissable dans cet ordre servant à former au moins un des éléments de (1) à (5). Ces étapes simples permettent de produire un dispositif d'entrée capacitif de haute qualité.
(JA)前面板と、前記前面板の非接触側に少なくとも(1)マスク層、(2)複数の第一の透明電極パターン、(3)複数の第二の透明電極パターン、(4)前記第一の透明電極パターンと前記第二の透明電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層、および(5)前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素を有する静電容量型入力装置を製造する際に、仮支持体と熱可塑性樹脂層と光硬化性樹脂層とをこの順で有する感光性フィルムを用いて(1)~(5)の少なくとも一つを形成する静電容量型入力装置の製造方法は、静電容量型入力装置を簡便な工程で高品位に製造可能にすることできる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)