(EN) The present invention provides a substrate with an electrode containing no ITO. The present invention provides a substrate with an electrode, comprising the following: a transparent substrate (10) that has a first principal surface (12) and a second principal surface (14) opposite said first principal surface; a metal-oxide layer (20) formed on top of the aforementioned first principal surface; and a metal electrode (30) formed on top of the metal-oxide layer. The metal-oxide layer has an electrode-bearing section (21), on top of which the metal electrode is formed, and a no-electrode section (22), on top of which the metal electrode is not formed. The electrode-bearing section has a higher optical density than the no-electrode section.
(FR) La présente invention porte sur un substrat ayant une électrode et qui ne contient pas d'oxyde d'indium dopé à l'étain (ITO). La présente invention porte sur un substrat ayant une électrode, comprenant ce qui suit : un substrat transparent (10) qui a une première surface principale (12) et une seconde surface principale (14) en regard de ladite première surface principale ; une couche métal-oxyde (20) formée sur le dessus de la première surface principale susmentionnée ; et une électrode métallique (30) formée sur le dessus de la couche métal-oxyde. La couche métal-oxyde a une section portant électrode (21), au-dessus de laquelle l'électrode métallique est formée, et une section sans électrode (22), au-dessus de laquelle l'électrode métallique n'est pas formée. La section portant électrode a une densité optique supérieure à la section sans électrode.
(JA) 本発明は、ＩＴＯレスの電極付き基板を提供する。本発明は、第１主面（１２）と当該第１主面に対向する第２主面（１４）とを有する透明基板（１０）と、前記第１主面上に形成された金属酸化物層（２０）と、前記金属酸化物層上に形成された金属電極（３０）と、を備え、前記金属酸化物層は、当該層上に前記金属電極が形成されている電極部（２１）と、当該層上に前記金属電極が形成されていない非電極部（２２）と、を有し、前記電極部は前記非電極部よりも光吸収性が高い、電極付き基板を提供する。
