Traitement en cours

Veuillez attendre...

PATENTSCOPE sera indisponible durant quelques heures pour des raisons de maintenance le mardi 25.01.2022 à 12:00 PM CET
Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2012161128 - APPAREIL DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET APPAREIL MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE

Numéro de publication WO/2012/161128
Date de publication 29.11.2012
N° de la demande internationale PCT/JP2012/062835
Date du dépôt international 18.05.2012
CIB
H01L 21/683 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683pour le maintien ou la préhension
B23Q 3/15 2006.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
QPARTIES CONSTITUTIVES, AMÉNAGEMENTS OU ACCESSOIRES DES MACHINES-OUTILS, p.ex. DISPOSITIONS POUR COPIER OU COMMANDER; MACHINES-OUTILS D'UTILISATION GÉNÉRALE, CARACTÉRISÉES PAR LA STRUCTURE DE CERTAINES PARTIES CONSTITUTIVES OU AMÉNAGEMENTS; COMBINAISONS OU ASSOCIATIONS DE MACHINES POUR LE TRAVAIL DES MÉTAUX, NE VISANT PAS UN TRAVAIL PARTICULIER
3Dispositifs permettant de maintenir, supporter ou positionner les pièces ou les outils, ces dispositifs pouvant normalement être démontés de la machine
15Dispositifs pour tenir les pièces magnétiquement ou électriquement
H01J 37/20 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
20Moyens de support ou de mise en position de l'objet ou du matériau; Moyens de réglage de diaphragmes ou de lentilles associées au support
H02N 13/00 2006.1
HÉLECTRICITÉ
02PRODUCTION, CONVERSION OU DISTRIBUTION DE L'ÉNERGIE ÉLECTRIQUE
NMACHINES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
13Embrayages ou dispositifs de maintien utilisant l'attraction électrostatique, p.ex. utilisant l'effet Johnson-Rahbek
CPC
B23Q 3/15
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING
3Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
15Devices for holding work using magnetic or electric force acting directly on the work
H01J 2237/2007
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
2007Holding mechanisms
H01J 2237/248
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
248Components associated with the control of the tube
H01J 37/20
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
H01J 37/28
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
28with scanning beams
H01L 21/683
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
Déposants
  • 株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 大澤 哲司 OHSAWA Tetsuji [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 石垣 直也 ISHIGAKI Naoya [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 大澤 哲司 OHSAWA Tetsuji
  • 石垣 直也 ISHIGAKI Naoya
Mandataires
  • 磯野 道造 ISONO Michizo
Données relatives à la priorité
2011-11359820.05.2011JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS AND ELECTROSTATIC CHUCK APPARATUS
(FR) APPAREIL DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET APPAREIL MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 荷電粒子線装置および静電チャック装置
Abrégé
(EN) The present invention improves reliability of an apparatus by applying a voltage corresponding to conditions. A charged particle beam apparatus (1) radiates an electron beam (16) to a sample (24) held on a sample stage (25) by means of an electrostatic chuck (30), and generates an image of the sample (24). The charged particle beam apparatus is provided with an electrostatic chuck control unit (13) which, at the time of holding the sample (24), applies a previously set initial voltage to a chuck electrode (26) of the electrostatic chuck (30), and determines whether the sample (24) is normally attracted to the electrostatic chuck (30). In the case where it is determined that the sample (24) is not normally attracted to the electrostatic chuck (30), the electrostatic chuck control unit increases the voltage to be applied to the chuck electrode (26) unit until it is determined that the sample (24) is normally attracted to the electrostatic chuck (30).
(FR) La présente invention améliore la fiabilité d'un appareil par application d'une tension correspondant à des conditions. Un appareil de faisceau de particules chargées (1) rayonne un faisceau d'électrons (16) sur un échantillon (24) maintenu sur un porte-objet (25) au moyen d'un mandrin électrostatique (30), et génère une image de l'échantillon (24). L'appareil de faisceau de particules chargées comporte une unité de commande de mandrin électrostatique (13) qui, au moment de maintenir l'échantillon (24), applique une tension initiale préalablement définie à l'électrode de mandrin (26) du mandrin électrostatique (30), et détermine si l'échantillon (24) est normalement attiré par le mandrin électrostatique (30). Dans le cas où il est déterminé que l'échantillon (24) n'est pas normalement attiré par le mandrin électrostatique (30), l'unité de commande de mandrin électrostatique augmente la tension devant être appliquée à l'unité d'électrode de mandrin (26) jusqu'à ce qu'il soit déterminé que l'échantillon (24) est normalement attiré par le mandrin électrostatique (30).
(JA)  状況に応じた印加電圧とすることで装置の信頼性を向上させる。 試料ステージ(25)に静電チャック(30)によって保持された試料(24)に電子線(16)を照射し、試料(24)の画像を生成する荷電粒子線装置(1)であって、試料(24)を保持する際に、静電チャック(30)のチャック電極(26)に予め設定した初期電圧を印加するとともに、試料(24)が静電チャック(30)に正常に吸着したか否かを判定し、試料(24)が静電チャック(30)に正常に吸着していないと判定した場合は、試料(24)が静電チャック(30)に正常に吸着したと判定するまで、チャック電極(26)に印加する電圧を上昇させる静電チャック制御部(13)を備える。
Related patent documents
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international