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1. (WO2012110914) DISPOSITIF DE SYNTHESE D'UN MATERIAU COMPOSITE NANOSTRUCTURE ET PROCEDE ASSOCIE.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2012/110914 N° de la demande internationale : PCT/IB2012/050549
Date de publication : 23.08.2012 Date de dépôt international : 07.02.2012
CIB :
C23C 14/22 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
34
Pulvérisation cathodique
Déposants :
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 25, rue Leblanc - Bâtiment "Le Ponant D" F-75015 Paris, FR
Inventeurs :
LECONTE, Yann; FR
PAQUEZ, Xavier; FR
SUBLEMONTIER, Olivier; FR
Mandataire :
REBOUSSIN, Yohann; Cabinet Ores 36, rue de Saint Pétersbourg F-75008 Paris, FR
Données relatives à la priorité :
110044714.02.2011FR
Titre (EN) DEVICE FOR SYNTHESISING A NANOSTRUCTURED COMPOSITE MATERIAL, AND ASSOCIATED METHOD
(FR) DISPOSITIF DE SYNTHESE D'UN MATERIAU COMPOSITE NANOSTRUCTURE ET PROCEDE ASSOCIE.
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a device for synthesising a nanostructured composite material and to an associated method. The device includes a chamber (3) for synthesising said material, comprising a system (13) for depositing the matrix onto a target surface (15), a system (1, 4, 5, 9) for generating a supersonic jet of nanoparticles in a carrier gas, said system comprising an expansion chamber (1) and a buffer chamber (2) arranged between said system (1, 4, 5, 9) for generating said supersonic jet and the synthesis chamber (3), the prevailing pressure inside the buffer chamber (2) being lower than the prevailing pressure inside the expansion chamber (1), said supersonic jet of carrier gas driving the nanoparticles which are to thereby pass through the expansion chamber (1) and then through the buffer chamber (2), such that the nanoparticles pass through the synthesis chamber (3) onto the target surface (15).
(FR) La présente invention concerne un dispositif de synthèse d'un matériau composite nanostructuré et un procédé associé. Le dispositif comprend une chambre de synthèse (3) dudit matériau comportant un système (13) de dépôt de la matrice sur une surface cible (15), un système (1, 4, 5, 9) pour générer un jet supersonique de nanoparticules dans un gaz porteur, ledit système comportant une chambre de détente (1 ) et une chambre tampon (2) disposée entre ledit système (1, 4, 5, 9) pour générer ce jet supersonique et la chambre de synthèse (3), la pression régnant dans la chambre tampon (2) étant inférieure à la pression régnant dans la chambre de détente (1 ), ledit jet supersonique de gaz porteur entraînant les nanoparticules étant ainsi destiné à traverser la chambre de détente (1 ) puis la chambre tampon (2), de sorte que les nanoparticules traversent la chambre de synthèse (3) jusqu'à la surface cible (15).
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Français (FR)
Langue de dépôt : Français (FR)
Également publié sous:
EP2675936