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1. WO2012026405 - ALLIAGE MAGNÉTIQUE DOUX POUR UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE, MATÉRIAU DE CIBLE DE PULVÉRISATION, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE

Numéro de publication WO/2012/026405
Date de publication 01.03.2012
N° de la demande internationale PCT/JP2011/068790
Date du dépôt international 19.08.2011
CIB
G11B 5/667 2006.01
GPHYSIQUE
11ENREGISTREMENT DE L'INFORMATION
BENREGISTREMENT DE L'INFORMATION BASÉ SUR UN MOUVEMENT RELATIF ENTRE LE SUPPORT D'ENREGISTREMENT ET LE TRANSDUCTEUR
5Enregistrement par magnétisation ou démagnétisation d'un support d'enregistrement; Reproduction par des moyens magnétiques; Supports d'enregistrement correspondants
62Supports d'enregistrement caractérisés par l'emploi d'un matériau spécifié
64comportant uniquement le matériau magnétique, sans produit de liaison
66les supports d'enregistrement étant constitués par plusieurs couches magnétiques
667comprenant une couche magnétique douce
C22C 19/07 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
19Alliages à base de nickel ou de cobalt, seuls ou ensemble
07à base de cobalt
C23C 14/34 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
34Pulvérisation cathodique
G11B 5/851 2006.01
GPHYSIQUE
11ENREGISTREMENT DE L'INFORMATION
BENREGISTREMENT DE L'INFORMATION BASÉ SUR UN MOUVEMENT RELATIF ENTRE LE SUPPORT D'ENREGISTREMENT ET LE TRANSDUCTEUR
5Enregistrement par magnétisation ou démagnétisation d'un support d'enregistrement; Reproduction par des moyens magnétiques; Supports d'enregistrement correspondants
84Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication de supports d'enregistrement
851Revêtement d'un support avec une couche magnétique par pulvérisation cathodique
CPC
C22C 19/07
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
19Alloys based on nickel or cobalt
07based on cobalt
C23C 14/3407
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
34Sputtering
3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
C23C 14/3414
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
34Sputtering
3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
G11B 5/656
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
62Record carriers characterised by the selection of the material
64comprising only the magnetic material without bonding agent
65characterised by its composition
656containing Co
G11B 5/667
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
62Record carriers characterised by the selection of the material
64comprising only the magnetic material without bonding agent
66consisting of several layers
667including a soft magnetic layer
G11B 5/851
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
851Coating a support with a magnetic layer by sputtering
Déposants
  • 山陽特殊製鋼株式会社 SANYO SPECIAL STEEL CO., LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 澤田 俊之 SAWADA Toshiyuki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 長谷川 浩之 HASEGAWA Hiroyuki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 岸田 敦 KISHIDA Atsushi [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 澤田 俊之 SAWADA Toshiyuki
  • 長谷川 浩之 HASEGAWA Hiroyuki
  • 岸田 敦 KISHIDA Atsushi
Mandataires
  • 勝沼 宏仁 KATSUNUMA Hirohito
Données relatives à la priorité
2010-18687624.08.2010JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) SOFT MAGNETIC ALLOY FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) ALLIAGE MAGNÉTIQUE DOUX POUR UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE, MATÉRIAU DE CIBLE DE PULVÉRISATION, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気記録媒体用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体
Abrégé
(EN)
A soft magnetic alloy for a perpendicular magnetic recording medium, which has a low coercive force, high amorphous properties, high corrosion resistance, and a high hardness, and a sputtering target for forming a thin film of this alloy are provided. This alloy comprises, in at. %, 6 to 20% in total of one or two elements selected from Zr and Hf, 1 to 20% of B, 0 to 7% in total of one or more elements selected from Ti, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Ni, Al, Si, and P, with the remainder comprising Co and/or Fe and unavoidable impurities. This alloy further satisfies 6 ≤ 2x(Zr%+Hf%)-B% ≤ 16 and 0 ≤ Fe%/(Fe%+Co%) < 0.20.
(FR)
L'invention concerne un alliage magnétique doux pour un support d'enregistrement magnétique perpendiculaire, qui a une faible force coercitive, de fortes propriétés amorphes, une grande résistance à la corrosion, et une grande dureté, et une cible de pulvérisation pour former une couche mince de cet alliage. Cet alliage comprend en pourcentage atomique, 6 à 20 % au total d'un ou de deux éléments sélectionnés parmi le Zr et le Hf, 1 à 20 % de B, 0 à 7 % au total d'un ou de plusieurs éléments sélectionnés parmi le Ti, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Ni, Al, Si et P, le reste comprenant du Co et/ou du Fe et des impuretés inévitables. Cet alliage satisfait en outre à 6 ≤ 2x(Zr%+Hf%)-B% ≤ 16 et 0 ≤ Fe%/(Fe%+Co%) < 0,20.
(JA)
 低い保磁力、高非晶質性、高耐食性および高硬度を有する垂直磁気記録媒体用軟磁性合金、およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲットが提供される。この合金は、at.%で、ZrおよびHfの1種または2種を合計で6~20%、Bを1~20%、Ti,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Ni,Al,Si,Pの1種または2種以上を合計0~7%含み、残部Coおよび/またはFeならびに不可避的不純物よりなる。この合金は、6≦2×(Zr%+Hf%)-B%≦16、および0≦Fe%/(Fe%+Co%)<0.20をさらに満たすものである。
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