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1. WO2012014664 - FILM STRATIFIÉ RÉFLÉCHISSANT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION

Numéro de publication WO/2012/014664
Date de publication 02.02.2012
N° de la demande internationale PCT/JP2011/065773
Date du dépôt international 11.07.2011
CIB
G02B 5/08 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
08Miroirs
C23C 14/06 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
06caractérisé par le matériau de revêtement
CPC
C23C 14/0641
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
0641Nitrides
C23C 14/086
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
08Oxides
086of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
C23C 14/568
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
568Transferring the substrates through a series of coating stations
G02B 5/0858
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0816Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
085at least one of the reflecting layers comprising metal
0858the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
Déposants
  • セントラル硝子株式会社 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 中西 由貴 NAKANISHI, Yuki (UsOnly)
  • 加藤 和広 KATO, Kazuhiro (UsOnly)
  • 大本 英雄 OMOTO, Hideo (UsOnly)
  • 冨岡 孝夫 TOMIOKA, Takao (UsOnly)
Inventeurs
  • 中西 由貴 NAKANISHI, Yuki
  • 加藤 和広 KATO, Kazuhiro
  • 大本 英雄 OMOTO, Hideo
  • 冨岡 孝夫 TOMIOKA, Takao
Mandataires
  • 小林 博通 KOBAYASHI, Hiromichi
Données relatives à la priorité
2010-17118629.07.2010JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) REFLECTIVE LAMINATED FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) FILM STRATIFIÉ RÉFLÉCHISSANT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 反射積層膜およびその製造方法
Abrégé
(EN)
Provided is a reflective laminated film formed on a substrate. The reflective laminated film comprises: an underlayer arranged on the substrate; a reflective layer arranged on the underlayer and comprising Ag as the primary component; a protective layer arranged on the reflective layer; and a transparent reflection-increasing layer arranged on the protective layer. The reflective layer contains N. The transparent reflection-increasing layer is a laminate containing an Si oxynitride layer. The laminate contains a low-refractive-index layer containing the Si oxynitride layer, and contains a high-refractive-index layer. The reflective film is capable of simultaneously realizing high reflectivity and good durability.
(FR)
L'invention concerne un film stratifié réfléchissant formé sur un substrat, lequel film stratifié réfléchissant comprend : une sous-couche disposée sur le substrat ; une couche réfléchissante disposée sur la sous-couche et comprenant de l'Ag en qualité de composant principal ; une couche protectrice disposée sur la couche réfléchissante ; et une couche transparente augmentant la réflexion disposée sur la couche protectrice. La couche réfléchissante contient du N. La couche transparente augmentant la réflexion est un stratifié contenant une couche d'oxynitrure de Si. Le stratifié comprend une couche à faible indice de réfraction contenant la couche d'oxynitrure de Si, et comprend une couche à indice de réfraction élevé. Le film réfléchissant est capable d'offrir simultanément une réflectivité élevée et une bonne durabilité.
(JA)
 本発明によれば、基材上に成膜される反射積層膜であり、該反射積層膜は基材上に下地層、該下地層上にAgを主成分とする反射層、該反射層上に保護層、該保護層上に透明増反射層を有し、前記反射層がNを含むものであり、前記透明増反射層がSiの酸窒化物層を含む積層体であり、該積層体はSiの酸窒化物層を含む低屈折率層と高屈折率層とを含むものであることを特徴とする反射積層膜が提供される。該反射膜では、高い反射率と良好な耐久性とを同時に実現することができる。
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