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1. WO2012008427 - FILM FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT, SON PROCÉDÉ DE FORMATION ET ÉLÉMENT FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT DOTÉ DE CELUI-CI ET SOLUTION DE REVÊTEMENT POUR LA FORMATION D'UN FILM FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET ÉLÉMENT FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT DOTÉ DE CELLE-CI

Numéro de publication WO/2012/008427
Date de publication 19.01.2012
N° de la demande internationale PCT/JP2011/065840
Date du dépôt international 12.07.2011
CIB
C03C 17/25 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
CCOMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, DE SUBSTANCES MINÉRALES OU DE SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
17Traitement de surface du verre, p.ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement
22par d'autres matières inorganiques
23Oxydes
25par dépôt à partir d'une phase liquide
C09D 1/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
DCOMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
1Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de substances inorganiques
C09D 7/12 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
DCOMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
7Caractéristiques de compositions de revêtement non prévues dans le groupe C09D5/102; Procédés pour l’incorporation d’ingrédients dans des compositions de revêtement
12Autres adjuvants
C09D 185/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
DCOMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
185Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant des atomes autres que le silicium, le soufre, l'azote, l'oxygène et le carbone; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
H01L 31/042 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
31Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails
04adaptés comme dispositifs de conversion photovoltaïque
042Modules PV ou matrices de cellules PV individuelles
CPC
C03C 17/007
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
17Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
006with materials of composite character
007containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
C03C 2217/45
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2217Coatings on glass
40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
43consisting of a dispersed phase in a continuous phase
44characterized by the composition of the continuous phase
45Inorganic continuous phases
C03C 2217/465
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2217Coatings on glass
40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
43consisting of a dispersed phase in a continuous phase
46characterized by the dispersed phase
465having a specific shape
C03C 2217/478
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2217Coatings on glass
40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
43consisting of a dispersed phase in a continuous phase
46characterized by the dispersed phase
47consisting of a specific material
475Inorganic materials
478Silica
C03C 2217/732
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2217Coatings on glass
70Properties of coatings
73Anti-reflective coatings with specific characteristics
732made of a single layer
C09D 1/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
1Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
02alkali metal silicates
Déposants
  • セントラル硝子株式会社 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001, JP (AllExceptUS)
  • 杉本 敏明 SUGIMOTO, Toshiaki; null (UsOnly)
  • 高信 尚史 TAKANOBU, Naofumi; null (UsOnly)
  • 原 育成 HARA, Ikunari; null (UsOnly)
Inventeurs
  • 杉本 敏明 SUGIMOTO, Toshiaki; null
  • 高信 尚史 TAKANOBU, Naofumi; null
  • 原 育成 HARA, Ikunari; null
Mandataires
  • 小林 博通 KOBAYASHI, Hiromichi; 東京都中央区明石町1番29号 掖済会ビル SHIGA内外国特許事務所内 c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044, JP
Données relatives à la priorité
2010-15825812.07.2010JP
2010-15825912.07.2010JP
2010-15826012.07.2010JP
2010-15826112.07.2010JP
2010-29171928.12.2010JP
2010-29172028.12.2010JP
2010-29172128.12.2010JP
2010-29172228.12.2010JP
2011-15070007.07.2011JP
2011-15070107.07.2011JP
2011-15070207.07.2011JP
2011-15070307.07.2011JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) LOW-REFLECTIVE FILM, METHOD FOR FORMATION THEREOF AND LOW-REFLECTIVE MEMBER EQUIPPED THEREWITH, AND COATING SOLUTION FOR FORMATION OF LOW-REFLECTIVE FILM, METHOD FOR PREPARATION THEREOF AND LOW-REFLECTIVE MEMBER EQUIPPED THEREWITH
(FR) FILM FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT, SON PROCÉDÉ DE FORMATION ET ÉLÉMENT FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT DOTÉ DE CELUI-CI ET SOLUTION DE REVÊTEMENT POUR LA FORMATION D'UN FILM FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET ÉLÉMENT FAIBLEMENT RÉFLÉCHISSANT DOTÉ DE CELLE-CI
(JA) 低反射膜およびその形成方法およびそれを用いた低反射部材、並びに、低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材
Abrégé
(EN)
[Problem] To provide a low-reflective film to be formed on a transparent base material and a method for forming the low-reflective film. Specifically, to provide a low-reflective film which can have a low refractive index and a low reflectance when prepared in the form of a single-layered film and can be formed so as to have a large surface area in a simpler manner, a method for forming the low-reflective film, and a low-reflective member equipped with the low-reflective film. [Solution] A low-reflective film and a process for producing the low-reflective film, said low-reflective film characterised by comprising silica microparticles and at least one metal oxide selected from a group consisting of tungsten oxide, niobium oxide, tantalum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide, aluminum oxide, hafnium oxide, chromium oxide, cerium oxide, molybdenum oxide and lanthanum oxide as a binder in an amount of 5 to 40 mass% inclusive relative to the amount of the silica microparticles, and by having a refractive index of 1.20 to 1.40 inclusive.
(FR)
L'invention porte sur un film faiblement réfléchissant devant être formé sur un matériau de base transparent et sur un procédé de formation du film faiblement réfléchissant. De façon spécifique, l'invention porte sur un film faiblement réfléchissant qui peut avoir un faible indice de réfraction et un faible facteur de réflexion lorsqu'il est préparé sous la forme d'un film monocouche et qui peut être formé de façon à avoir une grande superficie d'une manière plus simple, sur un procédé pour la formation du film faiblement réfléchissant et sur un élément faiblement réfléchissant doté du film faiblement réfléchissant. L'invention porte sur un film faiblement réfléchissant comprenant des microparticules de silice et au moins un oxyde métallique choisi dans le groupe constitué par l'oxyde de tungstène, l'oxyde de niobium, l'oxyde de tantale, l'oxyde de titane, l'oxyde de zirconium, l'oxyde d'étain, l'oxyde d'aluminium, l'oxyde de hafnium, l'oxyde de chrome, l'oxyde de cérium, l'oxyde de molybdène et l'oxyde de lanthane comme liant à hauteur de 5 à 40 % en masse inclus par rapport à la quantité des nanoparticules de silice et caractérisé en ce qu'il a un indice de réfraction de 1,20 à 1,40 inclus ; et sur un procédé pour la production du film faiblement réfléchissant.
(JA)
【課題】 透明基体上に形成する低反射膜およびその形成方法に関し、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜およびその形成方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。 【解決手段】 シリカ微粒子と、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、酸化クロム、酸化セリウム、酸化モリブデンおよび酸化ランタンからなる群から選ばれた少なくとも1種の金属酸化物をシリカ微粒子に対し5質量%以上、40質量%以下、バインダーとして含有してなり、屈折率1.20以上、1.40以下であることを特徴とする低反射膜およびその形成方法。
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