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1. WO2012008204 - PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE FILM CONDUCTEUR

Numéro de publication WO/2012/008204
Date de publication 19.01.2012
N° de la demande internationale PCT/JP2011/060267
Date du dépôt international 27.04.2011
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
H01B 13/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
BCÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
13Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de conducteurs ou câbles
CPC
G03F 7/06
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
06Silver salts
G06F 3/044
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
3Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
044by capacitive means
G06F 3/045
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
3Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
045using resistive elements, e.g. single continuous surface or two parallel surfaces put in contact
Déposants
  • セイコーインスツル株式会社 SEIKO INSTRUMENTS INC. [JP/JP]; 千葉県千葉市美浜区中瀬1丁目8番地 8, Nakase 1-chome, Mihama-ku, Chiba-shi, Chiba 2618507, JP (AllExceptUS)
  • 杉野谷 充 SUGINOYA, Mitsuru [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 小林 寛昌 KOBAYASHI, Tomoatsu [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 石曽根 昇 ISHISONE, Noboru [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 杉野谷 充 SUGINOYA, Mitsuru; JP
  • 小林 寛昌 KOBAYASHI, Tomoatsu; JP
  • 石曽根 昇 ISHISONE, Noboru; JP
Mandataires
  • 久原 健太郎 KUHARA, Kentaro; 千葉県千葉市美浜区中瀬1丁目8番地 セイコーインスツル株式会社内 c/o SEIKO INSTRUMENTS INC., 8, Nakase 1-chome, Mihama-ku, Chiba-shi, Chiba 2618507, JP
Données relatives à la priorité
2010-16168816.07.2010JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE FILM PATTERN
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE FILM CONDUCTEUR
(JA) 導電膜パターンの形成方法
Abrégé
(EN)
There has been a problem wherein highly fine patterns cannot be obtained using inkjet systems since photolithography, mask sputtering, i.e., conventional electrode-forming methods, have difficult problems to solve in order to meet the needs with respect to step simplification, material use efficiency, cost and various substrate sizes. Disclosed is a method for forming a conductive film pattern, wherein desired electrode patterning is performed using a photosensitive coating type electrode material. In an electrode-forming step, a desired electrode pattern can be obtained by performing first exposure and second exposure using a high cost performance lamp having diffusion light as a light source, said second exposure having an exposure quantity larger than that of the first exposure. The problems that have not been solved to meet the needs with respect to material use efficiency, cost and various substrate sizes by the conventional methods at the time of forming, for instance, the wiring electrodes of touch panels, and the issue of highly fine electrode patterning that has not been solved by the inkjet systems are solved by the double exposure process using the diffusion light.
(FR)
Etant donné l'impossibilité d'obtenir des motifs très fins au moyen de systèmes à jet d'encre, du fait que la photolithographie, la pulvérisation par masque, autrement dit, les procédés classiques de fabrication d'électrodes, ne parviennent pas à satisfaire les besoins de simplification des étapes, d'économie sur la consommation des matériaux, de limitation des coûts et de gestion de la diversité des tailles des substrats, la présente invention concerne un procédé qui permet de former un motif de film conducteur, la réalisation du motif désiré de l'électrode se faisant au moyen d'un matériau d'électrode du type à revêtement photosensible. Lors d'une étape de formation d'électrode, un motif d'électrode souhaité peut être obtenu grâce à une première exposition et à une seconde exposition réalisées au moyen d'une lampe dotée d'un excellent rapport coût-performance et ayant une lumière diffusée qui sert de source de lumière, ladite seconde exposition ayant un degré d'exposition supérieur à celui de la première exposition. Les difficultés non résolues par les procédés classiques pour satisfaire aux besoins d'économie de consommation sur les matériaux, de réduction des coûts et de gestion des différentes tailles des substrats lors de la réalisation, par exemple, des électrodes de câblage de panneaux tactiles, et le problème des profils d'électrode extrêmement fins non résolus par les systèmes à jet d'encre sont résolus grâce audit procédé à double exposition utilisant la lumière diffusée.
(JA)
従来の電極作成方法であるフォトリソグラフィ、マスクスパッタリングは、工程の簡略化、材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応において解決するには困難な課題があり、インクジェット方式では高精細度なパターンが得られないという課題がある。 感光性塗布型電極材料を用いて、所望の電極パターンニングを行う。本発明による電極作成工程において、コストメリットがある拡散光を光源とするランプを用いて第1の露光と第1の露光よりも大きい露光量をもった第2の露光を施すことで、所望の電極パターンを得ることができる。拡散光を用いた2回露光プロセスによって、例えばタッチパネルの配線電極作成において従来の方法では解決できない材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応という課題かつ、インクジェット方式では解決できない高精細電極パターニングを解決するものである。
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