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Paramétrages

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1. WO2012006433 - PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR APPLIQUER UN REVÊTEMENT À GRANDE VITESSE SUR LES RÉGIONS HORS DE VUE D'UN SUBSTRAT

Numéro de publication WO/2012/006433
Date de publication 12.01.2012
N° de la demande internationale PCT/US2011/043205
Date du dépôt international 07.07.2011
CIB
C23C 16/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
CPC
C23C 14/228
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
228Gas flow assisted PVD deposition
C23C 14/32
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
32by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours ; , e.g. ion-plating
H01J 2237/332
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
32Processing objects by plasma generation
33characterised by the type of processing
332Coating
H01J 37/32357
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32357Generation remote from the workpiece, e.g. down-stream
H01J 37/32385
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32366Localised processing
32385Treating the edge of the workpieces
H01J 37/32449
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3244Gas supply means
32449Gas control, e.g. control of the gas flow
Déposants
  • DIRECTED VAPOR TECHNOLOGIES INTERNATIONAL, INC. [US/US]; 2 Boar's Head Lane Charlottesville, VA 22903, US (AllExceptUS)
  • HASS, Derek [US/US]; US (UsOnly)
  • GOGIA, Balvinder [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • HASS, Derek; US
  • GOGIA, Balvinder; US
Mandataires
  • BECHEN, Timothy, J.; 200 South 10th Street, Suite 1600 P.O. Box 1320 (23218-1320) Richmond, VA 23219, US
Données relatives à la priorité
61/339,12607.07.2010US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD AND APPARATUS FOR APPLYING A COATING AT A HIGH RATE ONTO NON-LINE-OF-SIGHT REGIONS OF A SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR APPLIQUER UN REVÊTEMENT À GRANDE VITESSE SUR LES RÉGIONS HORS DE VUE D'UN SUBSTRAT
Abrégé
(EN)
The present invention provides for a method and apparatus for the directed vapor deposition (DVD) on non-line of sight (NLOS) portions of a substrate. The method and apparatus includes evaporating a first material for deposition on to the substrate, the evaporating generating a plurality of vapor molecules. The method and apparatus therein provides for the insertion of a carrier gas and the direction of the vapor molecules to be deposited in NLOS regions of the substrate. One embodiment utilizes plasma activation to ionize the vapor particles and bias the substrate to attract the charged vapor molecules onto the NLOS portion. Another embodiment uses an inert gas as the carrier gas. Another embodiment includes pre-heating the carrier gas prior to its insertion into the deposition chamber. Whereby the varying embodiments and combinations herein improve NLOS DVD.
(FR)
Cette invention concerne un procédé et un appareil pour le dépôt ciblé en phase vapeur (DVD) sur les parties hors de vue (NLOS) d'un substrat. Ledit procédé et appareil comprend l'évaporation d'un premier matériau destiné à être déposé sur le substrat, l'évaporation générant une pluralité de molécules de vapeur. Le procédé et l'appareil ci-décrits permettent l'introduction d'un gaz vecteur et l'orientation des molécules de vapeur qui doivent être déposées vers les régions NLOS du substrat. Un mode de réalisation utilise l'activation d'un plasma pour ioniser les particules de vapeur et l'inclinaison du substrat pour attirer les molécules de vapeur chargées sur la partie NLOS. Un autre mode de réalisation utilise un gaz inerte à titre de gaz vecteur. Un autre mode de réalisation encore comprend le préchauffage du gaz vecteur avant son introduction dans la chambre de dépôt. Ces divers modes de réalisation et leurs combinaisons permettent d'améliorer le dépôt DVD sur les parties hors de vue du substrat.
Également publié en tant que
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