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1. WO2012004745 - PROCÉDÉ ET APPAREIL PERMETTANT D'IMPRIMER UN MOTIF PÉRIODIQUE AVEC UNE IMPORTANTE PROFONDEUR DE FOYER

Numéro de publication WO/2012/004745
Date de publication 12.01.2012
N° de la demande internationale PCT/IB2011/052977
Date du dépôt international 05.07.2011
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03B 27/54
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
27Photographic printing apparatus
32Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
52Details
54Lamp housings; Illuminating means
G03F 7/70325
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70325Resolution enhancement techniques not otherwise provided for, e.g. darkfield imaging, interfering beams, spatial frequency multiplication, nearfield lens
G03F 7/7035
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
7035Proximity or contact printer
G03F 7/70408
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70375Imaging systems not otherwise provided for, e.g. multiphoton lithography; Imaging systems comprising means for converting one type of radiation into another type of radiation, systems comprising mask with photo-cathode
70408Interferometric lithography; Holographic lithography; Self-imaging lithography
Déposants
  • EULITHA A.G. [CH/CH]; Villigen PSI CH-5232 Villigen Psi, CH (AllExceptUS)
  • CLUBE, Francis [GB/CH]; CH (UsOnly)
  • DAIS, Christian [DE/CH]; CH (UsOnly)
  • SOLAK, Harun [TR/CH]; CH (UsOnly)
Inventeurs
  • CLUBE, Francis; CH
  • DAIS, Christian; CH
  • SOLAK, Harun; CH
Données relatives à la priorité
12/831,33707.07.2010US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) A METHOD AND APPARATUS FOR PRINTING A PERIODIC PATTERN WITH LARGE DEPTH OF FOCUS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL PERMETTANT D'IMPRIMER UN MOTIF PÉRIODIQUE AVEC UNE IMPORTANTE PROFONDEUR DE FOYER
Abrégé
(EN)
A method for printing a desired pattern into a photosensitive layer that includes providing a mask bearing a pattern of linear features that are parallel to a first direction, arranging the layer parallel to and separated from said mask, generating substantially monochromatic light and illuminating the mask pattern with said light over a range of angles substantially in a plane parallel to said first direction, whereby the light of each angle of illumination transmitted by the mask forms a range of transversal intensity distributions between Talbot planes and forms a light-field component at the layer, and the superposition of said components prints the desired pattern, wherein the range of angles is selected in relation to the wavelength, the separation and the period so that the superposition of said components is substantially equivalent to an average of the range of transversal intensity distributions formed by light at one of the angles.
(FR)
La présente invention a trait à un procédé permettant d'imprimer un motif souhaité sur une couche photosensible, lequel procédé inclut les étapes consistant à fournir un masque supportant un motif d'éléments linéaires qui sont parallèles à une première direction, à agencer la couche de manière à ce qu'elle soit parallèle audit masque et séparée de ce dernier, à générer une lumière sensiblement monochromatique et à éclairer le motif du masque au moyen de ladite lumière sur une plage d'angles sensiblement dans un plan parallèle à ladite première direction, ce qui permet de la sorte à la lumière de chaque angle d'éclairage transmise par le masque de former une plage de répartitions de l'intensité transversales entre les plans de Talbot et de former une composante de champ lumineux au niveau de la couche, et la superposition desdites composantes permet d'imprimer le motif souhaité, la plage d'angles étant sélectionnée en fonction de la longueur d'onde, de la séparation et de la période de sorte que la superposition desdites composantes est sensiblement équivalente à une moyenne de la plage de répartitions de l'intensité transversales formée par la lumière à l'un des angles.
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