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1. WO2012002423 - PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE FILM FIN ORGANIQUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE

Numéro de publication WO/2012/002423
Date de publication 05.01.2012
N° de la demande internationale PCT/JP2011/064894
Date du dépôt international 29.06.2011
CIB
H05B 33/10 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
BCHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33Sources lumineuses électroluminescentes
10Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des sources lumineuses électroluminescentes
B05D 3/02 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
DPROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
3Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides
02par cuisson
F26B 13/30 2006.01
FMÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
26SÉCHAGE
BSÉCHAGE DE MATÉRIAUX SOLIDES OU D'OBJETS PAR ÉLIMINATION DU LIQUIDE QUI Y EST CONTENU
13Machines ou appareils à mouvement progressif pour le séchage des tissus, fibres, fils ou autres matériaux en grandes longueurs
24Aménagements des dispositifs utilisant des procédés de séchage n'impliquant pas de chauffage
30pour exercer une succion, p.ex. à travers des rouleaux perforés
H01L 51/50 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
CPC
H01L 51/0003
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
0001Processes specially adapted for the manufacture or treatment of devices or of parts thereof
0002Deposition of organic semiconductor materials on a substrate
0003using liquid deposition, e.g. spin coating
H01L 51/56
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
50specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED]
56Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices or of parts thereof
Déposants
  • コニカミノルタホールディングス株式会社 Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番1号 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP (AllExceptUS)
  • 藏方 慎一 KURAKATA Shinichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 川邉 茂寿 KAWABE Shigetoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 藏方 慎一 KURAKATA Shinichi; JP
  • 川邉 茂寿 KAWABE Shigetoshi; JP
Données relatives à la priorité
2010-15086801.07.2010JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR FORMATION OF ORGANIC THIN FILM LAYER, AND METHOD FOR PRODUCTION OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE COUCHE DE FILM FIN ORGANIQUE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 有機薄膜層の形成方法、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
Abrégé
(EN)
Disclosed are: an organic thin film layer formation method for forming at least one organic thin film layer having a stable film thickness by applying a coating solution for organic thin film layer formation use by a coating mode on a strip-shaped base material that is conveyed continuously, without causing drying unevenness; and a method for producing an organic EL element by the aforementioned method. Specifically disclosed is an organic thin film layer formation method which comprises a coating step of coating a coating solution for organic thin film layer formation use on a strip-shaped base material that is supported on a back roll and is conveyed by the back roll and a drying step of drying a coating film that has been formed in the coating step, and is characterized in that the drying step is carried out using a drying apparatus which is equipped with the back roll and a drying chamber placed on the back roll.
(FR)
L'invention concerne un procédé de formation d'une couche de film fin organique permettant de former au moins une couche de film fin organique ayant une épaisseur de film stable, ceci en appliquant une solution de revêtement, utilisée pour la formation de couche de film fin organique, selon un procédé de revêtement sur un matériau de base en forme de bande qui se déplace de manière continue, et ceci sans causer d'irrégularités de séchage. L'invention concerne également un procédé de production d'un élément EL organique selon le procédé susmentionné. L'invention concerne plus précisément un procédé de formation d'une couche de film fin organique qui comprend une étape de revêtement consistant à appliquer une solution de revêtement utilisée pour la formation de couche de film fin organique sur un matériau de base en forme de bande qui est supporté par un galet arrière et qui est transporté par ce dernier, et une étape de séchage consistant à sécher le film de revêtement formé lors de l'étape de revêtement, caractérisé en ce que l'étape de séchage se fait en utilisant un appareil de séchage qui est équipé du galet arrière et d'une chambre de séchage placée sur le galet arrière.
(JA)
 連続的に搬送される帯状基材の上に塗布方式で有機薄膜層形成用塗布液を塗布し、乾燥ムラの発生がなく、安定した膜厚を有する少なくとも1層の有機薄膜層を形成する有機薄膜層の形成方法及びこの方法による有機EL素子の製造方法の提供するため、バックロールに支持され搬送される帯状基材の上に、有機薄膜層形成用塗布液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗膜を乾燥する乾燥工程を有する有機薄膜層の形成方法において、前記乾燥工程は、前記バックロールの上に乾燥室を有する乾燥装置を使用していることを特徴とする有機薄膜層の形成方法。
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