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1. (WO2011155635) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM EN OXYDE MÉTALLIQUE, FILM EN OXYDE MÉTALLIQUE, ÉLÉMENT UTILISANT LEDIT FILM EN OXYDE MÉTALLIQUE, SUBSTRAT POURVU D'UN FILM EN OXYDE MÉTALLIQUE, ET DISPOSITIF UTILISANT LEDIT SUBSTRAT POURVU D'UN FILM EN OXYDE MÉTALLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/155635    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/063627
Date de publication : 15.12.2011 Date de dépôt international : 08.06.2011
CIB :
C01G 27/02 (2006.01), C01F 7/02 (2006.01), C01F 17/00 (2006.01), C01G 23/04 (2006.01), C01G 25/02 (2006.01), C03C 17/25 (2006.01), C03C 17/27 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), C01B 13/32 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO METAL MINING CO., LTD. [JP/JP]; 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716 (JP) (Tous Sauf US).
YUKINOBU Masaya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURAYAMA Yuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAGANO Takahito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OTSUKA Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YUKINOBU Masaya; (JP).
MURAYAMA Yuki; (JP).
NAGANO Takahito; (JP).
OTSUKA Yoshihiro; (JP)
Mandataire : OSHIDA Yoshitaka; Ginza Bldg., 3-12, Ginza 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-131227 08.06.2010 JP
2011-061383 18.03.2011 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING METAL OXIDE FILM, METAL OXIDE FILM, ELEMENT USING THE METAL OXIDE FILM, SUBSTRATE WITH METAL OXIDE FILM, AND DEVICE USING THE SUBSTRATE WITH METAL OXIDE FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM EN OXYDE MÉTALLIQUE, FILM EN OXYDE MÉTALLIQUE, ÉLÉMENT UTILISANT LEDIT FILM EN OXYDE MÉTALLIQUE, SUBSTRAT POURVU D'UN FILM EN OXYDE MÉTALLIQUE, ET DISPOSITIF UTILISANT LEDIT SUBSTRAT POURVU D'UN FILM EN OXYDE MÉTALLIQUE
(JA) 金属酸化物膜の製造方法及び金属酸化物膜、それを用いた素子、金属酸化物膜付き基板並びにそれを用いたデバイス
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are: a metal oxide film, which is formed by a coating method that is one of the methods for producing a metal oxide film, and which has a good balance between excellent transparency and high electrical conductivity, while having excellent film strength; and a method for producing the metal oxide film. Specifically disclosed is a method for producing a metal oxide film, which comprises: a coating step wherein a coating film is formed on a substrate using a metal oxide film-forming coating liquid that contains various organic metal compounds; a drying step wherein the coating film is changed into a dry coating film; and a heating step wherein an inorganic film is formed from the dry coating film. The method for producing a metal oxide film is characterized in that in the heating step, the dry coating film, which is mainly composed of the various organic metal compounds, is heated to a temperature at which at least mineralization of organic metal compound components occurs or higher in an oxygen-containing atmosphere at a temperature not higher than the temperature that is lower by 10˚C than the dew point, so that the organic components in the dry coating film are removed by thermal decomposition or combustion, or by thermal decomposition and combustion, thereby forming a metal oxide fine particle layer which is densely filled with metal oxide fine particles that are mainly composed of various metal oxides.
(FR)Cette invention concerne : un film en oxyde métallique, qui est formé par un procédé de revêtement qui est l'un des procédés de production d'un film en oxyde métallique, et qui possède un bon équilibre entre une excellente transparence et une conductivité électrique élevée, tout en ayant une excellente résistance mécanique de film; et un procédé de production dudit film en oxyde métallique. Plus spécifiquement, cette invention concerne un procédé de production d'un film en oxyde métallique qui comprend : une étape de revêtement qui consiste à former un film de revêtement sur un substrat à l'aide d'un liquide de revêtement apte à former un film en oxyde métallique qui contient divers composés métalliques organiques; une étape de séchage qui consiste à convertir le film de revêtement en un film de revêtement sec; et une étape de chauffage qui consiste à former un film inorganique à partir du film de revêtement sec. Le procédé de production d'un film en oxyde métallique selon l'invention est caractérisé en ce que, dans l'étape de chauffage, le film de revêtement sec qui est principalement constitué de divers composés métalliques organiques est chauffé jusqu'à une température à laquelle au moins la minéralisation des composants des composés métalliques organiques survient, ou à une température supérieure, dans une atmosphère contenant de l'oxygène à une température ne dépassant pas une température qui est inférieure de 10°C au point de rosée, de façon que les composants organiques dans le film de revêtement sec soient éliminés par décomposition thermique et combustion, pour former ainsi une couche fine de particules d'oxyde métallique qui est densément chargée en fines particules d'oxyde métallique qui sont principalement constituées de divers oxydes métalliques.
(JA) 金属酸化物膜の製造方法である塗布法によって形成される、優れた透明性と高い導電性を兼ね備え、かつ膜強度に優れる金属酸化物膜、及びこの金属酸化物膜の製造方法を提供する。 各種有機金属化合物を含む金属酸化物膜形成用塗布液を用いて基板上に塗布膜を形成する塗布工程、その塗布膜を乾燥塗布膜とする乾燥工程、その乾燥塗布膜から無機膜を形成する加熱処理工程の各工程を経て形成される金属酸化物膜の製造方法であって、その加熱処理工程が各種有機金属化合物を主成分とする乾燥塗布膜を露点温度−10℃以下の酸素含有雰囲気下で、少なくとも有機金属化合物成分の無機化が起こる加熱温度以上まで昇温する加熱処理を行い、乾燥塗布膜中の有機成分を熱分解または燃焼、或いは熱分解並びに燃焼により除去することで各種金属酸化物を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した金属酸化物微粒子層を形成することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)