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1. (WO2011152307) DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉQUIPÉ D'UN CAPTEUR TACTILE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/152307    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/062204
Date de publication : 08.12.2011 Date de dépôt international : 27.05.2011
CIB :
G09F 9/30 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01), G02F 1/136 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01), G06F 3/041 (2006.01), G06F 3/042 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
KAWASAKI Tatsuya; (US Seulement).
AICHI Hiroshi; (US Seulement)
Inventeurs : KAWASAKI Tatsuya; .
AICHI Hiroshi;
Mandataire : KAWAKAMI Keiko; Intelix International, Aqua Dojima West, 4-16, Dojimahama 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-124913 31.05.2010 JP
Titre (EN) DISPLAY DEVICE EQUIPPED WITH TOUCH SENSOR
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉQUIPÉ D'UN CAPTEUR TACTILE
(JA) タッチセンサ付き表示装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a display device which comprises a photo detection element (D1) which is arranged in a pixel region (1), an opening (a through-hole) (19a) which is formed in an insulating film (19) that is placed above the photo detection element (D1), and a transparent electrode (20) which is formed in the opening (19a), wherein leakage failure rarely occurs between the transparent electrode (20) and other wiring line (SL). Specifically disclosed is a display device comprising an active matrix substrate (100) in which a first wiring line (SL) and a second wiring line (GL) are formed in a matrix shape, and a photo detection element (D1) which is arranged in a pixel region (1) in the active matrix substrate (100). The display device comprises a first insulating film (17) which is formed between the first wiring line (SL) and the second wiring line (GL), a second insulating film (19) which is formed on an upper layer of the first insulating film (17), and a transparent electrode (20) which is so formed as to enter a through-hole (19a) that is formed in the second insulating film (19) and above the photo detection element (D1). The first wiring line (SL) has a discontinuous section at a part adjacent to the photo detection element, and both ends of the discontinuous section are electrically connected to each other through a support wiring line (16) which is arranged in the same layer in which the second wiring line (GL) is arranged.
(FR)L'invention porte sur un dispositif d'affichage qui comprend un élément de photodétection (D1) qui est disposé dans une région de pixels (1), une ouverture (un trou traversant) (19a) qui est formée dans un film isolant (19) qui est placé au-dessus de l'élément de photodétection (D1), et une électrode transparente (20) qui est formée dans l'ouverture (19a), une défaillance de fuite survenant rarement entre l'électrode transparente (20) et une autre ligne de câblage (SL). D'une manière spécifique, l'invention porte sur un dispositif d'affichage comprenant un substrat de matrice active (100) dans lequel une première ligne de câblage (SL) et une seconde ligne de câblage (GL) sont formées selon une forme de matrice, et un élément de photodétection (D1) qui est disposé dans une région de pixels (1) dans le substrat de matrice active (100). Le dispositif d'affichage comprend un premier film isolant (17) qui est formé entre la première ligne de câblage (SL) et la seconde ligne de câblage (GL), un second film isolant (19) qui est formé sur une couche supérieure du premier film isolant (17), et une électrode transparente (20) qui est formée de façon à entrer dans un trou traversant (19a) qui est formé dans le second film isolant (19) et au-dessus de l'élément de photodétection (D1). La première ligne de câblage (SL) a une section discontinue à une partie adjacente à l'élément de photodétection, et les deux extrémités de la section discontinue sont connectées électriquement l'une à l'autre par l'intermédiaire d'une ligne de câblage de support (16) qui est disposée dans la même couche que celle dans laquelle la seconde ligne de câblage (GL) est disposée.
(JA) 画素領域(1)内に設けられた光検出素子(D1)と、光検出素子(D1)の上方の絶縁膜(19)に形成された開口部(貫通孔)(19a)と、当該開口部(19a)内に形成された透明電極(20)とを有し、この透明電極(20)と他の配線(SL)との間でリーク不良が生じにくい表示装置を提供する。第1の配線(SL)と第2の配線(GL)とがマトリクス状に形成されたアクティブマトリクス基板(100)と、前記アクティブマトリクス基板(100)の画素領域(1)に設けられた光検出素子(D1)とを備えた表示装置は、第1の配線(SL)と第2の配線(GL)との間に形成された第1の絶縁膜(17)と、第1の絶縁膜(17)の上層に設けられた第2の絶縁膜(19)と、前記光検出素子(D1)の上方において、前記第2の絶縁膜(19)に形成された貫通孔(19a)内に入り込むよう形成された透明電極(20)とを備える。前記第1の配線(SL)が、光検出素子に隣接する箇所に不連続部分を有し、当該不連続部分の両端が、第2の配線(GL)と同層に設けられた補助配線(16)によって電気的に接続される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)