(EN) A method of preparing a diorganodihalosilane comprising the separate and consecutive steps of (i) contacting a copper catalyst with a mixture comprising hydrogen gas and a silicon tetrahalide at a temperature of from 500 to 1400 °C to form a silicon-containing copper catalyst comprising at least 0.1% (w/w) of silicon, wherein the copper catalyst is selected from copper and a mixture comprising copper and at least one element selected from gold, magnesium, calcium, cesium, tin, and sulfur; and (ii) contacting the silicon-containing copper catalyst with an organohalide at a temperature of from 100 to 600 °C to form at least one diorganodihalosilane.
(FR) La présente invention concerne un procédé de préparation d'un diorganodihalosilane comprenant les étapes distinctes et successives suivantes: (i) la mise en contact d'un catalyseur de cuivre avec un mélange comportant du gaz hydrogène et un tétrahalogénure de silicium à une température comprise entre 500 et 1400°C pour former un catalyseur de cuivre contenant au moins 0,1% en masse volumique de silicium, le catalyseur de cuivre étant choisi parmi le cuivre et un mélange contenant du cuivre et au moins un élément choisi parmi l'or, le magnésium, le calcium, le césium, l'étain, et le soufre; et (ii) la mise en contact du catalyseur de cuivre contenant du silicium avec un organohalogénure à une température comprise entre 100 et 600°C pour former au moins un diorganodihalosilane.