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1. (WO2011148975) DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'IMAGES, DISPOSITIF DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, ÉCHANTILLON D'AJUSTEMENT DE DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/148975    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/061978
Date de publication : 01.12.2011 Date de dépôt international : 25.05.2011
CIB :
H01J 37/22 (2006.01), G01B 15/00 (2006.01), G01B 15/06 (2006.01), H01J 37/147 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (Tous Sauf US).
KAWADA Hiroki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
INOUE Osamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUI Miyako [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWASAKI Takahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ITABASHI Naoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAHAMA Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SETOGUCHI Katsumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOMURO Osamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAWADA Hiroki; (JP).
INOUE Osamu; (JP).
MATSUI Miyako; (JP).
KAWASAKI Takahiro; (JP).
ITABASHI Naoshi; (JP).
TAKAHAMA Takashi; (JP).
SETOGUCHI Katsumi; (JP).
KOMURO Osamu; (JP)
Mandataire : HIRAKI Yusuke; Atago Green Hills MORI Tower 32F, 5-1, Atago 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1056232 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-121122 27.05.2010 JP
2011-034975 21.02.2011 JP
2011-039181 25.02.2011 JP
Titre (EN) IMAGE PROCESSING DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE ADJUSTMENT SAMPLE, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'IMAGES, DISPOSITIF DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, ÉCHANTILLON D'AJUSTEMENT DE DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 画像処理装置、荷電粒子線装置、荷電粒子線装置調整用試料、およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are an image processing device and a charged particle beam device that either measure or assess distortion within a field of view rapidly and precisely. To achieve the objective, an image processing device is provided that acquires a first image of a first region of a subject to be image captured and a second image of a second region with a different location from the first region and that is partially superpositioned therewith, and that derives the distance between a measurement point within the second image and a second component corresponding to a specified region within the second image for a plurality of sites of the superpositioned region of the first image and the second image.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traitement d'images et un dispositif de faisceau de particules chargées qui réalisent une mesure ou une évaluation rapide et précise d'une distorsion à l'intérieur d'un champ de vision. À cet effet, l'invention concerne un dispositif de traitement d'images qui acquiert une première image d'une première région d'un sujet dont l'image doit être capturée et une seconde image d'une seconde région située dans un endroit différent par rapport à la première région et qui est superposée partiellement à celle-ci, et qui en déduit la distance entre un point de mesure dans la seconde image et une seconde composante correspondant à une région spécifiée dans la seconde image pour une pluralité de sites de la région superposée de la première image et de la seconde image.
(JA)本発明は、高速且つ高精度に、視野内の歪みを測定、或いは評価する画像処理装置、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。上記目的を達成するために、撮像対象の第1の領域の第1の画像と、当該第1の領域とその位置が異なると共にその一部が重畳する第2の領域の第2の画像を取得し、第2の画像内の測定点と、第2の画像内の特定領域に相当する第2の部分との間の距離を、第1の画像と第2の画像の重畳領域の複数の部位について求めることを特徴とする画像処理装置等を提案する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)