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1. (WO2011129077) PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ ET PRÉCURSEUR DE COPOLYMÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/129077    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/002083
Date de publication : 20.10.2011 Date de dépôt international : 08.04.2011
CIB :
C08F 293/00 (2006.01)
Déposants : Nippon Soda Co., Ltd. [JP/JP]; 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008165 (JP) (Tous Sauf US).
NIITANI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TATEISHI, Yuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OKADO, Toshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NIITANI, Takeshi; (JP).
TATEISHI, Yuichi; (JP).
OKADO, Toshiaki; (JP)
Mandataire : HIROTA, Masanori; 3F Wakabayashi Building, 8-5, Akasaka 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-092952 14.04.2010 JP
Titre (EN) PRODUCTION METHOD FOR BLOCK COPOLYMER AND COPOLYMER PRECURSOR
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ ET PRÉCURSEUR DE COPOLYMÈRE
(JA) ブロック共重合体の製造方法及び共重合体前駆体
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a production method for a novel copolymer which is useful as a pigment dispersing agent or similar. The disclosed method is as follows: a polymer precursor is heated, said precursor containing: a block chain (A) formed from polymers containing at least one kind of repeating unit selected from the group consisting of a repeating unit having a tertiary amino group, and a repeating unit having a quaternary ammonium salt group; and a block chain (B) formed from copolymers containing repeating units having a polyoxyalkylene chain, and repeating units having a protected acidic group represented by formula (I). Thus, a block copolymer is produced which contains the block chain (A), and a block chain (B1) formed from copolymers containing repeating units having a polyoxyalkylene chain, and repeating units having an acidic group represented by formula (II).
(FR)La présente invention concerne un procédé de production pour un nouveau copolymère qui est utile en tant qu'agent de dispersion de pigment ou similaire. Le procédé décrit est comme suit : un précurseur de polymère est chauffé, ledit précurseur contenant : une chaîne séquencée (A) formée de polymères contenant au moins un type de motif de répétition choisi dans le groupe constitué d'un motif de répétition ayant un groupe amino tertiaire, et un motif de répétition ayant un groupe de sel d'ammonium quaternaire ; et une chaîne séquencée (B) formée de copolymères contenant des motifs de répétition ayant une chaîne polyoxyalkylène, et des motifs de répétition ayant un groupe acide protégé représenté par la formule (I). Un copolymère séquencé est ainsi produit et contient la chaîne séquencée (A), et une chaîne séquencée (B1) formée de copolymères contenant des motifs de répétition ayant une chaîne polyoxyalkylène, et des motifs de répétition ayant un groupe acide représenté par la formule (II).
(JA) 本発明の目的は、顔料の分散剤等として有用な新規共重合体の製造方法を提供することである。 本発明の製造方法は以下のとおりである。 3級アミノ基を含有する繰り返し単位及び4級アンモニウム塩基を含有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含有する重合体からなるブロック鎖(A)と、ポリオキシアルキレン鎖を含有する繰り返し単位及び、下記の式(I)で表される保護した酸性基を含有する繰り返し単位を含有する共重合体からなるブロック鎖(B)を含有する共重合体前駆体を加熱することにより、ブロック鎖(A)と、ポリオキシアルキレン鎖を含有する繰り返し単位及び、下記の式(II)で表される酸性基を含有する繰り返し単位を含有する共重合体からなるブロック鎖(B1)を含有するブロック共重合体の製造する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)