WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2011125855) DISPOSITIF DE REVÊTEMENT ÉLECTROSTATIQUE ET PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT ÉLECTROSTATIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/125855    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/058256
Date de publication : 13.10.2011 Date de dépôt international : 31.03.2011
CIB :
B05D 1/04 (2006.01), B05B 1/28 (2006.01), B05B 3/10 (2006.01), B05B 5/03 (2006.01)
Déposants : HONDA MOTOR CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Minami-Aoyama 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1078556 (JP) (Tous Sauf US).
SHIGEKURA Masaki; (US Seulement).
OGATA Kohei; (US Seulement)
Inventeurs : SHIGEKURA Masaki; .
OGATA Kohei;
Mandataire : MOTOYAMA Shinya; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-085411 01.04.2010 JP
2010-085412 01.04.2010 JP
2010-085413 01.04.2010 JP
2010-085414 01.04.2010 JP
Titre (EN) ELECTROSTATIC COATING DEVICE AND ELECTROSTATIC COATING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE REVÊTEMENT ÉLECTROSTATIQUE ET PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 静電塗装装置及び静電塗装方法
Abrégé : front page image
(EN)An electrostatic coating method uses a rotary atomizing coating device (1) to electrostatically coat an object (W) to be coated. An electrically charged coating material is atomized and ejected from the edge of the front end of the rotary atomizing head (22) of the rotary atomizing coating device (1), and shaping air is ejected toward the vicinity of the edge of the front end of the rotary atomizing head (22), the shaping air restricting the angle of ejection of the coating material by different restriction forces in a first area (410) and a second area (420) which are divided in the circumferential direction about the rotation axis (X) of the rotary atomizing head (22). As a result, an asymmetrically shaped coating pattern (PA) is formed.
(FR)Un procédé de revêtement électrostatique utilise un dispositif de revêtement par pulvérisation rotatif (1) permettant le revêtement électrostatique d'un objet (W) destiné à être revêtu. Un matériau de revêtement chargé électriquement est pulvérisé et éjecté depuis le bord de l'extrémité avant de la tête de pulvérisation rotative (22) du dispositif de revêtement par pulvérisation rotatif (1), et l'air de formation est éjecté en direction du voisinage du bord de l'extrémité avant de la tête de pulvérisation rotative (22), l'air de formation restreignant l'angle d'éjection du matériau de revêtement au moyen de différentes forces de restriction dans une première zone (410) et dans une seconde zone (420) qui sont divisées dans la direction circonférentielle autour de l'axe de rotation (X) de la tête de pulvérisation rotative (22). Par conséquent, un modèle de revêtement de forme asymétrique (PA) est formé.
(JA) 回転霧化式塗装装置1を用いて被塗装物Wを静電塗装する静電塗装方法において、回転霧化式塗装装置1の回転霧化頭22の先端縁から帯電した塗料を霧化して噴出するとともに、回転霧化頭22の回転軸Xを中心とする円周方向に区分けされた第1区域410と第2区域420とで塗料の噴出角度を規制する規制力が異なるシェーピングエアを、回転霧化頭22の先端縁近傍に向けて噴出することによって、非対称な形状の塗布パターンPAが形成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)