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1. (WO2011123124) DISPOSITIF À PLASMA À INTERFACE LIQUIDE-GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/123124    N° de la demande internationale :    PCT/US2010/029478
Date de publication : 06.10.2011 Date de dépôt international : 31.03.2010
CIB :
H05H 1/24 (2006.01)
Déposants : COLORADO STATE UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION [US/US]; P.o. Box 483 Fort Collins, Colorado 80522 (US) (Tous Sauf US).
KOO, Il-gyo [KR/US]; (US) (US Seulement).
COLLINS, George J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : KOO, Il-gyo; (US).
COLLINS, George J.; (US)
Mandataire : PERKINS, Stephen B.; COVIDIEN, ENERGY BASED DEVICES, Attn: IP Legal 5920 Longbow Drive, Mail Stop A36 Boulder, Colorado 80301 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LIQUID-GAS INTERFACE PLASMA DEVICE
(FR) DISPOSITIF À PLASMA À INTERFACE LIQUIDE-GAZ
Abrégé : front page image
(EN)A plasma system for treating a workpiece is disclosed. The plasma system includes: a plasma device including an electrode formed from a metal alloy and a dielectric layer covering the electrode, the dielectric layer including a distal portion extending distally past a distal end of the electrode by a predetermined distance; a liquid source configured to supply a liquid to a workpiece; an ionizable media source coupled to the plasma device and configured to supply ionizable media thereto; and a power source coupled to the electrode and configured to ignite the ionizable media at the plasma device to form a plasma effluent in the presence of the liquid, whereby the plasma effluent reacts with the liquid to form at least one reactive species that interacts with the workpiece.
(FR)Système à plasma destiné au traitement d'une pièce, qui comprend : un dispositif à plasma comprenant une électrode faite d'un alliage de métaux, recouverte par une couche diélectrique, laquelle couche diélectrique comprend une partie distale s'étendant distalement au-delà d'une extrémité distale de l'électrode sur une distance prédéterminée ; une source de liquide conçue pour amener un liquide sur une pièce ; une source de milieu ionisable couplée au dispositif à plasma et conçue pour fournir un milieu ionisable à ce dernier ; et une source d'électricité reliée à l'électrode et conçue pour enflammer le milieu ionisable dans le dispositif à plasma et former un effluent plasmatique en présence du liquide, l'effluent plasmatique réagissant avec le liquide pour former au moins une espèce réactive qui interagit avec la pièce.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)