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1. (WO2011121913) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2011/121913    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/001498
Date de publication : 06.10.2011 Date de dépôt international : 15.03.2011
CIB :
G11B 5/84 (2006.01), B24B 1/00 (2006.01), B24B 37/00 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Advanced Layers, Inc. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAE, Hazuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKAE, Hazuki; (JP)
Mandataire : KOTANI, Etsuji; Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2010-075325 29.03.2010 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)When repeatedly using colloidal silica as a polishing material when subjecting a glass material to precision polishing, a limitation on the frequency in which the colloidal silica can be repeatedly used is removed by preventing the colloidal silica from gelling, thereby dramatically increasing productivity. Disclosed is a method for producing a glass substrate for an information recording medium, which involves a precision polishing step in which a glass material, which has 0.5ng/cm2 or less of iron attached to the surface and a surface roughness (Ra) of 1nm or less, is subjected to precision polishing under acidic conditions using a polishing material containing colloidal silica. Also disclosed is a glass substrate for an information recording medium which is produced by means of the aforementioned method for producing a glass substrate for an information recording medium.
(FR)Lors de l'utilisation répétée de silice colloïdale comme matériau de polissage lorsqu'on soumet un matériau de verre à un polissage de précision, la limitation imposée à la fréquence à laquelle la silice colloïdale peut être utilisée de manière répétée est éliminée en empêchant la silice colloïdale de se gélifier, cela améliorant de manière spectaculaire la productivité. L'invention concerne un procédé de production d'un substrat de verre pour support d'enregistrement d'informations faisant intervenir une étape de polissage de précision lors de laquelle un matériau de verre, dans lequel 0,5 ng/cm2 ou moins de fer est fixé à la surface et ayant une rugosité de surface (Ra) de 1 nm ou moins, est soumis à un polissage de précision dans des conditions acides en utilisant un matériau de polissage contenant de la silice colloïdale. L'invention décrit également un substrat de verre pour support d'enregistrement d'informations qui est produit par le procédé mentionné ci-dessus afin de produire un substrat de verre pour support d'enregistrement d'informations.
(JA) ガラス素材を精密研磨加工する際に、コロイダルシリカを研磨材として循環使用するに当たり、コロイダルシリカがゲル化することを防止して循環使用できる回数が制限されることを防ぎ、もって生産性を格段に高めることを目的とする。 表面に付着している鉄分が0.5ng/cm2以下であって、表面粗さRaが1nm以下であるガラス素材にコロイダルシリカを含む研磨材を用いて、酸性条件下で精密研磨する精密研磨工程を備えることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。また、前記の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)