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1. WO2011108750 - PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR LE TRANSFERT DE MOTIFS

Numéro de publication WO/2011/108750
Date de publication 09.09.2011
N° de la demande internationale PCT/JP2011/055429
Date du dépôt international 02.03.2011
CIB
H01L 21/027 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
B29C 59/02 2006.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
CFAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES MATIÈRES À L'ÉTAT PLASTIQUE NON PRÉVU AILLEURS; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
59Façonnage de surface, p.ex. gaufrage; Appareils à cet effet
02par des moyens mécaniques, p.ex. par pressage
CPC
B82Y 10/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
10Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
B82Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
40Manufacture or treatment of nanostructures
G03F 7/0002
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Déposants
  • FUJIFILM Corporation [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • MATAKI, Hiroshi [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • MATAKI, Hiroshi
Mandataires
  • MATSUURA, Kenzo
Données relatives à la priorité
2010-04680403.03.2010JP
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) PATTERN TRANSFER METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR LE TRANSFERT DE MOTIFS
Abrégé
(EN) A method of performing pattern transfer includes the steps of: applying liquid to a substrate, while performing relative movement of the substrate and a liquid ejection head having a plurality of nozzles, by performing ejection and deposition of a plurality of droplets of the liquid from the nozzles onto the substrate in a state where a shape of each of the droplets upon the deposition is not a single circular shape and each of the droplets does not combine with adjacent another of the droplets on the substrate; and curing the liquid that has been applied to the substrate in the applying step while pressing a pattern forming surface of a stamper having a prescribed projection-recess pattern against the liquid.
(FR) L'invention concerne un procédé de transfert de motifs qui consiste à : appliquer un liquide à un substrat tout en imposant un mouvement relatif entre le substrat et une tête d'éjection de liquide comportant une pluralité de buses, en effectuant l'éjection et le dépôt d'une pluralité de gouttelettes du liquide depuis les buses sur le substrat dans un état où la forme de chacune des gouttelettes lors du dépôt n'est pas une simple forme circulaire, et chacune des gouttelettes ne se combine pas avec une autre gouttelette adjacente sur le substrat ; et durcir le liquide appliqué au substrat tout en comprimant une surface de formation de motifs d'une matrice présentant un motif en bosses et en creux prescrit contre le liquide.
Documents de brevet associés
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