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1. WO2011055660 - DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEUR

Numéro de publication WO/2011/055660
Date de publication 12.05.2011
N° de la demande internationale PCT/JP2010/069017
Date du dépôt international 20.10.2010
CIB
H01L 27/10 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
02comprenant des composants semi-conducteurs spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la génération d'oscillations ou la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
04le substrat étant un corps semi-conducteur
10comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration répétitive
G11C 11/405 2006.01
GPHYSIQUE
11ENREGISTREMENT DE L'INFORMATION
CMÉMOIRES STATIQUES
11Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliers; Eléments d'emmagasinage correspondants
21utilisant des éléments électriques
34utilisant des dispositifs à semi-conducteurs
40utilisant des transistors
401formant des cellules nécessitant un rafraîchissement ou une régénération de la charge, c. à d. cellules dynamiques
403avec régénération de la charge commune à plusieurs cellules de mémoire, c. à d. rafraîchissement externe
405avec trois portes à transfert de charges, p.ex. transistors MOS, par cellule
H01L 21/8242 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
70Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci; Fabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
77Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun
78avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
82pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants
822le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie au silicium
8232Technologie à effet de champ
8234Technologie MIS
8239Structures de mémoires
8242Structures de mémoires dynamiques à accès aléatoire (DRAM)
H01L 21/8247 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
70Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci; Fabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
77Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun
78avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
82pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants
822le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie au silicium
8232Technologie à effet de champ
8234Technologie MIS
8239Structures de mémoires
8246Structures de mémoires mortes (ROM)
8247programmables électriquement (EPROM)
H01L 27/108 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
02comprenant des composants semi-conducteurs spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la génération d'oscillations ou la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
04le substrat étant un corps semi-conducteur
10comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration répétitive
105comprenant des composants à effet de champ
108Structures de mémoires dynamiques à accès aléatoire
H01L 27/115 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
02comprenant des composants semi-conducteurs spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la génération d'oscillations ou la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
04le substrat étant un corps semi-conducteur
10comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration répétitive
105comprenant des composants à effet de champ
112Structures de mémoires mortes
115Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs
CPC
G11C 11/404
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
CSTATIC STORES
11Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
21using electric elements
34using semiconductor devices
40using transistors
401forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
403with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh
404with one charge-transfer gate, e.g. MOS transistor, per cell
G11C 11/405
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
CSTATIC STORES
11Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
21using electric elements
34using semiconductor devices
40using transistors
401forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
403with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh
405with three charge-transfer gates, e.g. MOS transistors, per cell
G11C 11/565
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
CSTATIC STORES
11Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
56using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
565using capacitive charge storage elements
G11C 16/0408
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
CSTATIC STORES
16Erasable programmable read-only memories
02electrically programmable
04using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
0408comprising cells containing floating gate transistors
G11C 16/10
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
CSTATIC STORES
16Erasable programmable read-only memories
02electrically programmable
06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
10Programming or data input circuits
G11C 2211/4016
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
CSTATIC STORES
2211Indexing scheme relating to digital stores characterized by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
401Indexing scheme relating to cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
4016Memory devices with silicon-on-insulator cells
Déposants
  • SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • YAMAZAKI, Shunpei [JP]/[JP] (UsOnly)
  • KOYAMA, Jun (UsOnly)
  • KATO, Kiyoshi (UsOnly)
Inventeurs
  • YAMAZAKI, Shunpei
  • KOYAMA, Jun
  • KATO, Kiyoshi
Données relatives à la priorité
2009-25553606.11.2009JP
2009-26457220.11.2009JP
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEUR
Abrégé
(EN)
Disclosed is a semiconductor device functioning as a multivalued memory device including: memory cells connected in series; a driver circuit selecting a memory cell and driving a second signal line and a word line; a driver circuit selecting any of writing potentials and outputting it to a first signal line; a reading circuit comparing a potential of a bit line and a reference potential; and a potential generating circuit generating the writing potential and the reference potential. One of the memory cells includes: a first transistor connected to the bit line and a source line; a second transistor connected to the first and second signal line; and a third transistor connected to the word line, bit line, and source line. The second transistor includes an oxide semiconductor layer. A gate electrode of the first transistor is connected to one of source and drain electrodes of the second transistor.
(FR)
L'invention concerne un dispositif à semi-conducteur fonctionnant comme un dispositif mémoire à valeurs multiples, qui comprend : des cellules mémoire connectées en série ; un circuit d'attaque destiné à sélectionner une cellule mémoire et attaquer une seconde ligne de signaux et une ligne de mots ; un circuit d'attaque destiné à sélectionner l'un quelconque des potentiels d'écriture et le délivrer à une première ligne de signaux ; un circuit de lecture destiné à comparer un potentiel de ligne de bits et un potentiel de référence ; et un circuit de génération de potentiel destiné à générer le potentiel d'écriture et le potentiel de référence. Une cellule mémoire comprend : un premier transistor connecté à la ligne de bits et à une ligne source ; un deuxième transistor connecté à la première et à la seconde ligne de bits ; et un troisième transistor connecté à la ligne de mots, à la ligne de bits et à la ligne source. Le deuxième transistor comprend une couche d'oxyde semi-conducteur. Une électrode de grille du premier transistor est connectée à l'une des électrodes source et drain du deuxième transistor.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international