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1. WO2011049090 - DISPERSION DE NOIR DE TITANE, COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, LENTILLE SUR TRANCHE, FILM DE BLOCAGE DE LUMIÈRE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU FILM DE BLOCAGE DE LUMIÈRE ET ÉLÉMENT DE CAPTURE D'IMAGE À SEMI-CONDUCTEURS

Numéro de publication WO/2011/049090
Date de publication 28.04.2011
N° de la demande internationale PCT/JP2010/068393
Date du dépôt international 19.10.2010
CIB
G02B 1/04 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
04faits de substances organiques, p.ex. plastiques
C08F 290/06 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
FCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
290Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères modifiés par introduction de groupes aliphatiques non saturés terminaux ou latéraux
02sur des polymères modifiés par introduction de groupes non saturés terminaux
06Polymères prévus par la sous-classe C08G54
G03F 7/004 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
C08F 290/064
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
290Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
02on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
06Polymers provided for in subclass C08G
064Polymers containing more than one epoxy group per molecule
C08F 292/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
292Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to inorganic materials
C08K 2003/0881
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
3Use of inorganic substances as compounding ingredients
02Elements
08Metals
0881Titanium
C08K 3/22
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
3Use of inorganic substances as compounding ingredients
18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
20Oxides; Hydroxides
22of metals
G03F 7/033
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
032with binders
033the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
G03F 7/105
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
09characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
105having substances, e.g. indicators, for forming visible images
Déposants
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM Corporation [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 久保田 誠 KUBOTA, Makoto [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 久保田 誠 KUBOTA, Makoto
Mandataires
  • 中島 淳 NAKAJIMA, Jun
Données relatives à la priorité
2009-24054619.10.2009JP
2010-07958130.03.2010JP
2010-07977930.03.2010JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) TITANIUM BLACK DISPERSION, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, WAFER LEVEL LENS, LIGHT BLOCKING FILM, METHOD FOR PRODUCING THE LIGHT BLOCKING FILM, AND SOLID-STATE IMAGE PICKUP ELEMENT
(FR) DISPERSION DE NOIR DE TITANE, COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, LENTILLE SUR TRANCHE, FILM DE BLOCAGE DE LUMIÈRE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU FILM DE BLOCAGE DE LUMIÈRE ET ÉLÉMENT DE CAPTURE D'IMAGE À SEMI-CONDUCTEURS
(JA) チタンブラック分散物、感光性樹脂組成物、ウェハレベルレンズ、遮光膜及びその製造方法、並びに固体撮像素子
Abrégé
(EN)
Disclosed is a titanium black dispersion which contains titanium black particles, a dispersant and an organic solvent. In cases where the titanium black dispersion is for wafer level lens applications, not less than 90% of dispersed materials that are composed of the titanium black particles has a particle diameter of not more than 30 nm, or alternatively, dispersed materials containing the titanium black particles also contain Si atoms and the content ratio of the Si atoms to the Ti atoms in the dispersed materials (namely, Si/Ti) is not less than 0.05. In cases where the titanium black dispersion is used for the formation of a light blocking film that is provided on one surface of a silicon substrate, which has an image pickup element unit on the other surface, for the purpose of blocking infrared light, not less than 90% of dispersed materials that are composed of the titanium black particles has a particle diameter of not more than 30 nm.
(FR)
La présente invention concerne une dispersion de noir de titane qui contient des particules de noir de titane, un dispersant et un solvant organique. Lorsque la dispersion de noir de titane est destinée à des applications impliquant des lentilles sur tranche, au moins 90 % des matériaux dispersés qui sont composés des particules de noir de titane ont un diamètre de particule inférieur ou égal à 30 nm ou, en variante, les matériaux dispersés contenant les particules de noir de titane contiennent également des atomes de Si et, dans les matériaux dispersés, le rapport des teneurs en atomes de Si et en atomes de Ti (autrement dit Si/Ti) est supérieur ou égal à 0,05. Lorsque la dispersion de noir de titane est utilisée pour la formation d'un film de blocage de lumière, qui est situé sur une surface d'un substrat de silicium comportant un élément de capture d'image sur son autre surface, afin de bloquer une lumière infrarouge, au moins 90 % des matériaux dispersés qui sont composés des particules de noir de titane ont un diamètre de particule inférieur ou égal à 30 nm.
(JA)
 チタンブラック粒子、分散剤、及び有機溶媒を含有するチタンブラック分散物。前記チタンブラック分散物がウェハレベルレンズ用である場合、前記チタンブラック粒子からなる被分散体の90%以上が30nm以下の粒径を有する、あるいは前記チタンブラック粒子を含む被分散体がSi原子を含み、該被分散体中のSi原子とTi原子との含有比(Si/Ti)が0.05以上である。前記チタンブラック分散物が一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面に設けられ赤外光を遮光する遮光膜の形成に用いられる場合、前記チタンブラック粒子からなる被分散体の90%以上が30nm以下の粒径を有する。
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