(EN) The disclosed method for producing a microstructure can form a complicated three-dimensionally formed microstructure with few steps. A first mask pattern (22) containing a light transmitting section and a light blocking section is disposed along an unexposed photosensitive resin (42), and a second mask pattern (32) containing a light transmitting section and a light blocking section is disposed on the reverse side of the first mask pattern (22) from the photosensitive resin (42). Additionally, by means of integrally rotating the photosensitive resin (42) and the first mask pattern (22) around a central axis (Z) that passes through the photosensitive resin (42) and the first mask pattern (22), and at the same time radiating exposure light from the reverse side of the second mask pattern (32) from the photosensitive resin (42) and the first mask pattern (22) in a direction that is inclined obliquely with respect to the direction of the central axis (Z), the light beam of the exposure light that is transmitted through the light transmitting section of the second mask pattern (32) and the light transmitting section of the first mask pattern (22) exposes the photosensitive resin (42).
(FR) La présente invention concerne un procédé de production d'une microstructure pouvant former une microstructure complexe conformée en trois dimensions comprenant un nombre limité d'étapes. Un premier dessin de masque (22) contenant une section de transmission de lumière et une section de blocage de lumière est disposé le long d'une résine photosensible non exposée (42), et un second dessin de masque (32) contenant une section de transmission de lumière et une section de blocage de lumière est disposé au verso du premier dessin de masque (22) depuis la résine photosensible (42). En outre, grâce à la rotation intégrale de la résine photosensible (42) et du premier dessin de masque (22) autour d'un axe central (Z) qui traverse la résine photosensible (42) et le premier dessin de masque (22), et au rayonnement simultané d'une lumière d'exposition provenant du verso du second dessin de masque (32) depuis la résine photosensible (42) et le premier dessin de masque (22) dans une direction qui est inclinée obliquement par rapport à la direction de l'axe central (Z), le faisceau lumineux de la lumière d'exposition qui est transmise à travers la section de transmission de lumière du second dessin de masque (32) et la section de transmission de lumière du premier dessin de masque (22) expose la résine photosensible (42).
(JA) 複雑な立体形状の微細構造体を少ない工程で形成することができる微細構造体の作製方法を提供する。 未露光の感光性樹脂42に沿って、透光部と遮光部とを含む第1のマスクパターン22を配置するとともに、第1のマスクパターン22に関して感光性樹脂42とは反対側に、透光部と遮光部とを含む第2のマスクパターン32を配置する。次いで、感光性樹脂42及び第1のマスクパターン22を貫通する中心軸Zを中心に、感光性樹脂42及び第1のマスクパターン22を一体回転させながら、第2のマスクパターン32に関して感光性樹脂42及び第1のマスクパターン22とは反対側から、中心軸Zの方向に対して斜めに傾いた方向から露光光を照射することにより、第2のマスクパターン32の透光部と第1のマスクパターン22の透光部とを透過した露光光の光束を、感光性樹脂42に露光する。