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1. WO2011043567 - ÉLÉMENT DE SUPPORT DE TRANCHE, PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION ET UNITÉ DE POLISSAGE DE TRANCHE LE COMPRENANT

Numéro de publication WO/2011/043567
Date de publication 14.04.2011
N° de la demande internationale PCT/KR2010/006755
Date du dépôt international 04.10.2010
CIB
H01L 21/304 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
304Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe
CPC
B24B 37/32
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
37Lapping machines or devices; Accessories
27Work carriers
30for single side lapping of plane surfaces
32Retaining rings
Déposants
  • 주식회사 엘지실트론 LG SILTRON INCORPORATED [KR]/[KR] (AllExceptUS)
  • 성재철 SUNG, Jae Chel [KR]/[KR] (UsOnly)
Inventeurs
  • 성재철 SUNG, Jae Chel
Mandataires
  • 김용인 KIM, Yong In
Données relatives à la priorité
10-2009-009519507.10.2009KR
10-2010-009117216.09.2010KR
Langue de publication coréen (KO)
Langue de dépôt coréen (KO)
États désignés
Titre
(EN) WAFER-SUPPORTING MEMBER, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND WAFER-POLISHING UNIT COMPRISING SAME
(FR) ÉLÉMENT DE SUPPORT DE TRANCHE, PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION ET UNITÉ DE POLISSAGE DE TRANCHE LE COMPRENANT
(KO) 웨이퍼 지지 부재, 그 제조방법 및 이를 포함하는 웨이퍼 연마 유닛.
Abrégé
(EN)
One embodiment relates to a wafer-supporting member comprising: a base substrate; a support unit which is bonded up to a predetermined width onto an edge of the base substrate, and which has a rounded outermost periphery; and a coating layer formed on an edge of the support unit.
(FR)
L'invention, selon un mode de réalisation, porte sur un élément de support de tranche, qui comprend : un substrat de base ; une unité de support qui est fixée jusqu'à une largeur prédéterminée sur un bord du substrat de base, et qui comporte une périphérie extérieure arrondie ; et une couche de revêtement formée sur un bord de l'unité de support.
(KO)
실시예는 베이스 기판; 상기 베이스 기판의 가장 자리에 기설정된 폭으로 접착되고, 최외곽이 라운드 가공된 지지부; 및 상기 지지부의 가장 자리 상에 구비된 코팅층을 포함하는 웨이퍼 지지 부재를 제공한다.
Également publié en tant que
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