(EN) Disclosed are an irradiation method of a laser, a frequency adjustment method of a piezoelectric vibrator using the same, and a frequency-adjusted piezoelectric device using the same capable of minimizing damage to silicon material or surrounding constituent elements, while the laser is transmitted through the silicon material and is irradiated preferably onto an object ahead of the same. Accordingly, as a laser to be used, a so-called "femtosecond laser" which is a pulse laser of a pulse width of 50 to 1000 fs (femtoseconds) is selected. This technology can, for example, preferably be used when irradiating a laser onto a piezoelectric vibrator contained in the interior of an electronic component package comprising silicon material to adjust the resonance frequency thereof.
(FR) L'invention porte sur un procédé d'irradiation d'un laser, sur un procédé d'ajustement de fréquence d'un vibreur piézoélectrique l'utilisant et sur un dispositif piézoélectrique ajusté en fréquence les utilisant, capables de rendre minimal l'endommagement du matériau de silicium ou d'éléments constitutifs environnants, tandis que le laser est transmis à travers le matériau de silicium et est irradié, de préférence, sur un objet devant le matériau. En conséquence, comme laser à utiliser, on choisit ce que l'on appelle un « laser femtoseconde », qui est un laser pulsé d'une largeur d'impulsion de 50 à 1 000 fs (femtosecondes). Cette technologie peut, par exemple, être utilisée, de préférence, lors de l'irradiation d'un laser sur un vibreur piézoélectrique contenu dans l'intérieur d'un boîtier de composant électronique comprenant du matériau de silicium, pour ajuster la fréquence de résonance de celui-ci.
(JA) シリコン材料やその周辺の構成要素に対するダメージを最小限に抑えつつ、シリコン材料にレーザーを透過させてその先の対象物に好適に照射することが可能なレーザーの照射方法、及びそれを用いた圧電振動子の周波数調整方法、並びにそれを用いて周波数調整された圧電デバイスを提供する。そのために、使用するレーザーとしてパルス幅が５０～１０００ｆｓ（フェムト秒）のパルスレーザーである所謂フェムト秒レーザーを選択する。この技術は、例えば、シリコン材料から成る電子部品パッケージの内部に収容された圧電振動子にレーザーを照射してその共振周波数を調整する際に好適に利用することができる。