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1. (WO2010018039) SOURCE DE RAYONNEMENT, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/018039    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/058898
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 13.07.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G21K 1/00 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
KEMPEN, Antonius [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
BANINE, Vadim [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
IVANOV, Vladimir [RU/RU]; (RU) (US Seulement).
LOOPSTRA, Erik [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : KEMPEN, Antonius; (NL).
BANINE, Vadim; (NL).
IVANOV, Vladimir; (RU).
LOOPSTRA, Erik; (NL)
Données relatives à la priorité :
61/136,130 14.08.2008 US
61/136,129 14.08.2008 US
61/193,373 21.11.2008 US
Titre (EN) RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SOURCE DE RAYONNEMENT, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)A lithographic apparatus includes a source configured to generate a radiation beam comprising desired radiation and undesired radiation using a plasma, an illumination system configured to condition the radiation beam and to receive hydrogen gas during operation of the lithographic apparatus, and a support structure constructed to hold a patterning device. The patterning device is capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. A substrate table is constructed to hold a substrate, and a projection system is configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The lithographic apparatus is configured such that the radiation beam on entering the projection system includes at least 50% of the undesired radiation that is generated by the plasma and includes wavelengths of radiation that interact with the hydrogen gas to generate hydrogen radicals.
(FR)La présente invention concerne un appareil lithographique comprenant une source conçue pour produire un faisceau de rayonnement comprenant un rayonnement souhaité et un rayonnement parasite au moyen d'un plasma, un système d'éclairage conçu pour conditionner le faisceau de rayonnement et pour recevoir de l'hydrogène gazeux pendant le fonctionnement de l'appareil lithographique, et une structure de support conçue pour maintenir un dispositif de façonnage. Le dispositif de façonnage est apte à conférer un motif à la section transversale du faisceau de rayonnement afin de former un faisceau de rayonnement façonné. Un plateau à substrat est conçu pour porter un substrat, et un système de projection est conçu pour projeter le faisceau de rayonnement façonné sur une partie cible du substrat. L'appareil lithographique est conçu de telle sorte que le faisceau de rayonnement, lorsqu'il pénètre dans le système de projection, comprend au moins 50 % du rayonnement parasite qui est généré par le plasma et comprend des longueurs d'onde de rayonnement qui interagissent avec l'hydrogène gazeux pour produire des radicaux hydrogène.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)