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1. (WO2010010915) ÉLÉMENT OPTIQUE POUR PHOTOMASQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE L'ÉLÉMENT OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/010915    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063168
Date de publication : 28.01.2010 Date de dépôt international : 23.07.2009
CIB :
C03C 3/06 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
Yoshinari, Toshio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
Azumi, Minako [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
Kimura, Yukiyasu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : Yoshinari, Toshio; (JP).
Azumi, Minako; (JP).
Kimura, Yukiyasu; (JP)
Mandataire : KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden, 5-4, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-190172 23.07.2008 JP
Titre (EN) OPTICAL MEMBER FOR PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE OPTICAL MEMBER
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE POUR PHOTOMASQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE L'ÉLÉMENT OPTIQUE
(JA) フォトマスク用光学部材及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An optical member for a photomask is provided by adding TiO2 to a synthetic quartz glass. The optical member contains 3.0 to 6.5 wt% of TiO2. In a method for manufacturing the optical member, after synthesizing a quartz glass ingot, the ingot is formed in a predetermined flat-board shape and then annealed in oxidizing atmosphere. Light absorption due to Ti3+ can be reduced by changing the Ti3+ in the quartz glass ingot to Ti4+ by annealing. Since the transmissivity to light having a wavelength of 365 nm is 90% or more, the optical member has sufficient transmissivity for practical use even to light having a wavelength close to 365 nm, and does not easily expand due to heat compared with quartz glass.
(FR)L'invention concerne un élément optique pour photomasque obtenu en ajoutant du TiO2 à un verre de quartz synthétique. L'élément optique contient de 3,0 à 6,5 % en poids de TiO2. Dans un procédé de fabrication de l'élément optique, après avoir synthétisé un lingot de verre de quartz, on donne au lingot une forme prédéterminée en panneau plat et on le recuit ensuite dans une atmosphère oxydante. L'absorption de la lumière due à Ti3+ peut être réduite en convertissant le Ti3+ présent dans le lingot de verre de quartz en Ti4+ par recuit. Comme sa transmittivité de la lumière ayant une longueur d'onde de 365 nm est de 90 % ou davantage, l'élément optique présente une transmittivité suffisante en utilisation pratique, même pour une lumière dont la longueur d'onde est proche de 365 nm, et sa dilatation thermique est moindre que celle du verre de quartz.
(JA) フォトマスク用光学部材は、合成石英ガラスにTiOを添加してなる光学部材である。TiOは3.0から6.5重量パーセント含有される。フォトマスク用光学部材の製造方法は、石英ガラスインゴットを合成した後、平板状の所定形状に成形し、その後、酸化雰囲気中でアニールする。アニールにより石英ガラスインゴット中のTi3+をTi4+に変化させてTi3+による光の吸収を低減することができる。波長365nmの光に対する透過率が90%以上であるので、波長365nm付近でも実用上十分な透過率を有し、かつ石英ガラスより熱膨張しにくい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)