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1. (WO2010010490) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE POUR ÉCLAIRAGE SÉLECTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/010490    N° de la demande internationale :    PCT/IB2009/053085
Date de publication : 28.01.2010 Date de dépôt international : 16.07.2009
CIB :
F21S 8/00 (2006.01), F21V 21/30 (2006.01), F21W 131/406 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1 NL-5621 BA Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
VERBRUGH, Stefan, M. [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VERHOEVEN, Mark, J., A. [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
WAUMANS, Lars, R., C. [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : VERBRUGH, Stefan, M.; (NL).
VERHOEVEN, Mark, J., A.; (NL).
WAUMANS, Lars, R., C.; (NL)
Mandataire : BEKKERS, Joost, J., J.; (NL)
Données relatives à la priorité :
08160861.4 22.07.2008 EP
Titre (EN) LIGHTING SYSTEM FOR SELECTIVE ILLUMINATION
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE POUR ÉCLAIRAGE SÉLECTIF
Abrégé : front page image
(EN)A lighting system (1, 21, 31) for selective illumination in an irradiation plane (10), which lighting system (1, 21, 31) comprises a lighting fixture (2, 32) and at least two lighting units (3) tiltably mounted to the fixture (2, 32) and each arranged to emit a beam of light towards the irradiation plane (10) at a variable tilt angle in relation to a normal (N) of the lighting fixture (2, 32), wherein each of the units (3) comprises a light source and an adjustment portion (5). The lighting system (1) further comprises a first angle adjustment means (6, 26, 36) having predefined formations (8, 28), wherein the predefined formations (8, 28) are adapted to, in use, couple with the adjustment portion (5) of each of the units (3) for tilting each of the units (3) about at least one axis to respective first predefined position, such that beams of light emitted by each of the units (3) are provided at respective first predefined tilt angles (?). With the provision of a lighting system (1) in accordance with the present invention, the characteristics of light spots (9) formed by light beams emitted by the lighting units (3) in the irradiation plane (10), such as the number of light spots (9) and the amount of flux distributed to each light spot (9), may be varied.
(FR)L'invention concerne un système d'éclairage (1, 21, 31) pour l'éclairage sélectif dans un plan d'irradiation (10), ledit système d'éclairage (1, 21, 31) comprenant un luminaire (2, 32) et au moins deux unités d'éclairage (3) montées de façon inclinable sur le luminaire (2, 32) et agencées pour émettre un faisceau de lumière en direction du plan d'irradiation (10) à un angle d'inclinaison variable par rapport à la normale (N) du luminaire (2, 32), chacune des unités (3) comprenant une source lumineuse et une partie d'ajustement (5). Le système d'éclairage (1) comprend également un premier moyen d'ajustement d'angle (6, 26, 36) comportant des formations prédéfinies (8, 28), les formations prédéfinies (8, 28) étant adaptées, pendant l'utilisation, pour s'accoupler à la partie d'ajustement (5) de chacune des unités (3) pour incliner chacune des unités (3) autour d'au moins un axe par rapport à la première position prédéfinie respective, de telle sorte que les faisceaux de lumière émis par chacune des unités (3) soient disposés à des premiers angles d'inclinaison prédéfinis respectifs (?). Avec un système d'éclairage (1) selon la présente invention, les caractéristiques des points lumineux (9) formés par les faisceaux lumineux émis par les unités d'éclairage (3) dans le plan d'irradiation (10), telles que le nombre de points lumineux (9) et la quantité du flux distribuée à chaque point lumineux (9), peuvent être modifiées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)