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1. (WO2010005107) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE POLYSILANE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/005107    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/062842
Date de publication : 14.01.2010 Date de dépôt international : 09.07.2009
CIB :
C08G 77/60 (2006.01), C08G 77/08 (2006.01)
Déposants : JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 1-8, Honcho 4-chome, Kawaguchi-shi Saitama 3320012 (JP) (Tous Sauf US).
National University Corporation KANAZAWA UNIVERSITY [JP/JP]; Nu 7, Kakuma-machi, Kanazawa-shi Ishikawa 9201164 (JP) (Tous Sauf US).
JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi shinbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050021 (JP) (Tous Sauf US).
SHIMODA, Tatsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWAJIRI, Ryo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISOBE, Kiyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAI, Hidetaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUKI, Yasuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIMODA, Tatsuya; (JP).
KAWAJIRI, Ryo; (JP).
ISOBE, Kiyoshi; (JP).
NAKAI, Hidetaka; (JP).
MATSUKI, Yasuo; (JP)
Mandataire : OHSHIMA, Masataka; OHSHIMA PATENT OFFICE BN Gyoen Building 17-11, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-181583 11.07.2008 JP
Titre (EN) POLYSILANE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE POLYSILANE
(JA) ポリシランの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a polysilane manufacturing method characterized in that specific silane compounds typified by cyclic silane compounds represented by formula (2) are reacted in the presence of binuclear metal complexes represented by formula (4). (In formula (2), j is an integer 3 to 10) (In formula (4), Cp is a cyclopentadienyl ligand, M is a metal atom selected from Rh and Ir, and M-M is a double bond.)
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de polysilane, caractérisé en ce qu'un composé silane spécifique représenté par un composé silane cyclique exprimé par la formule (2) est mis en réaction en présence d'un complexe métallique binucléaire exprimé par la formule (4). SijH2J (Dans la formule (2), j est un nombre entier entre 3 et 10.) [CpM (m – CH2)]2 (Dans la formule (4), Cp est un ligand cyclopentadyényle, M des atomes métalliques de Rh et Ir, avec une double liaison M-M.
(JA)本発明は、下記式(2)で表される環状シラン化合物に代表される特定のシラン化合物を、下記式(4)で表される二核金属錯体の存在下で反応させることを特徴とする、ポリシランの製造方法に関する。 Si2j (2)(式(2)中、jは3~10の整数である。) [CpM(μ―CH)]2 (4)(式(4)中、Cpはシタロペンタジエニル系配位子であり、MはRhおよびIrから選ばれる金属原子であり、M―M間は二重結合である。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)