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1. (WO2010002773) PROCÉDÉ POUR LA FORMATION IN SITU DE NANOAGRÉGATS À L’INTÉRIEUR D’UN CHAMP DE SUBSTRAT POREUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/002773    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/049026
Date de publication : 07.01.2010 Date de dépôt international : 29.06.2009
CIB :
B82B 3/00 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center Post Office Box 33427 Saint Paul, MN 55133-3427 (US) (Tous Sauf US).
WEISS, Douglas, E. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WEISS, Douglas, E.; (US)
Mandataire : FULTON, Lisa, P.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/077,080 30.06.2008 US
Titre (EN) METHOD FOR IN SITU FORMATION OF METAL NANOCLUSTERS WITHIN A POROUS SUBSTRATE FIELD
(FR) PROCÉDÉ POUR LA FORMATION IN SITU DE NANOAGRÉGATS À L’INTÉRIEUR D’UN CHAMP DE SUBSTRAT POREUX
Abrégé : front page image
(EN)A method for in situ formation of metal nanoclusters within a porous substrate comprises imbibing a porous substrate with an aqueous heavy metal salt solution, and exposing the imbibed porous substrate to ionizing radiation to form heavy metal nanoclusters within the porous substrate.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour la formation in situ de nanoagrégats à l’intérieur d’un substrat poreux comprenant l’imbibition d’un substrat poreux avec une solution aqueuse de sel de métaux lourds, et l’exposition du substrat poreux imbibé à un rayonnement ionisant pour former des nanoagrégats de métaux lourds dans le substrat poreux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)