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1. (WO2010001790) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/001790    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/061550
Date de publication : 07.01.2010 Date de dépôt international : 18.06.2009
CIB :
H01J 37/22 (2006.01), H01J 37/20 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (Tous Sauf US).
MIZUOCHI, Masaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIZUOCHI, Masaki; (JP)
Mandataire : INOUE, Manabu; C/0HTACHI, LTD. 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-172881 02.07.2008 JP
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a charged particle beam device wherein a secondary signal generated from an alignment pattern having known coordinate values in a sample coordinate system is detected, and a positional deviation quantity between the coordinate system of a sample (10) and the coordinate system of a stage (21) is calculated so as to generate coordinate correction data.  At the time of observing a sample image, the secondary signal generated from the alignment pattern is detected at least once so as to perform realignment, and the coordinate correction data is updated.  Thus, the charged particle beam device performs long-time inspection at a high observation magnification by accurately correcting the sample coordinate information obtained by temperature change, while suppressing apparatus cost increase and through put deterioration.
(FR)L'invention porte sur un dispositif à faisceau de particules chargées dans lequel un signal secondaire généré à partir d'un motif d'alignement ayant des valeurs de coordonnées connues dans un système de coordonnées d'échantillon est détecté, et une quantité de déviation de position entre le système de coordonnées d'un échantillon (10) et le système de coordonnées d'un étage (21) est calculée de façon à générer des données de correction de coordonnées. Au moment de l'observation d'une image d'échantillon, le signal secondaire généré à partir du motif d'alignement est détecté au moins une fois de façon à effectuer un réalignement, et les données de correction de coordonnées sont mises à jour. Ainsi, le dispositif à faisceau de particules chargées effectue une inspection de longue durée à un agrandissement d'observation élevé par correction précise des informations de coordonnées d'échantillon obtenues par un changement de température, tout en supprimant une augmentation de coût d'appareil et une détérioration de débit.
(JA) 荷電粒子線装置において、 試料座標系の座標値が既知であるアライメントパターンから発生する二次信号を検出して、試料(10)の座標系とステージ(21)の座標系との間の位置ずれ量を算出し座標補正データを生成するとともに、 試料画像観察時にはアライメントパターンから発生する二次信号を少なくとも1回検出して再アライメントを実行し、前記座標補正データを更新する。 これにより、装置コストの上昇、及びスループットの低下を抑えつつ、温度変化による試料座標の情報を精度良く補正し、 高い観察倍率で長時間検査が可能な荷電粒子線装置を提供することが可能になった。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)