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1. (WO2009113149) DISPOSITIF POUR MESURER UNE LONGUEUR DE MOTIF ET PROCÉDÉ POUR MESURER UNE LONGUEUR DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2009/113149    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/054295
Date de publication : 17.09.2009 Date de dépôt international : 10.03.2008
CIB :
G01B 15/00 (2006.01), G03F 1/00 (2012.01), H01J 37/22 (2006.01)
Déposants : ADVANTEST CORPORATION [JP/JP]; 32-1, Asahi-cho 1-chome, Nerima-ku, Tokyo, 1790071 (JP) (Tous Sauf US).
MATSUMOTO, Jun [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OGISO, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MATSUMOTO, Jun; (JP).
OGISO, Yoshiaki; (JP)
Mandataire : OKAMOTO, Keizo; OKAMOTO PATENT OFFICE Yamanishi Bldg., 4F, 11-7, Nihonbashi Ningyo-cho 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) DEVICE FOR MEASURING PATTERN LENGTH AND METHOD FOR MEASURING PATTERN LENGTH
(FR) DISPOSITIF POUR MESURER UNE LONGUEUR DE MOTIF ET PROCÉDÉ POUR MESURER UNE LONGUEUR DE MOTIF
(JA) パターン測長装置及びパターン測長方法
Abrégé : front page image
(EN)A device for measuring a pattern length measures an edge-to-edge spacing of a pattern with excellent repeatability and accuracy. The device for measuring a pattern length has an electron beam irradiation section to irradiate an electron beam onto a specimen while scanning, an image data acquisition section to acquire an image of the pattern in accordance with the amount of electrons generated on the specimen on which the pattern is formed through irradiation of an electron beam, a measurement target area setting section to set up a pair of measurement areas including edges of the pattern image, and a control section which detects shapes of edges on the pattern within the measurement areas and calculates an edge-to-edge spacing of the pattern within a pair of measurement areas. The control section calculates an edge characteristic curve by taking moving average with a specified moving average width for an edge profile where edges on the pattern within the measurement areas are shown with positional coordinates of measurement points at specified intervals and specifies a position of a peak value on the edge characteristic curve as an edge position on the pattern within the measurement areas.
(FR)L'invention porte sur un dispositif pour mesurer une longueur de motif, qui mesure un espacement de bord à bord d'un motif avec une excellente répétabilité et une excellente précision. Le dispositif pour mesurer une longueur de motif a une section d'irradiation de faisceau d'électrons pour irradier un faisceau d'électrons sur un échantillon tout en le balayant, une section d'acquisition de données d'image pour acquérir une image du motif conformément à la quantité d'électrons générées sur l'échantillon sur lequel le motif est formé par irradiation d'un faisceau d'électrons, une section de réglage de zones cibles de mesure pour régler une paire de zones de mesure comprenant des bords de l'image de motif, et une section de commande qui détecte des formes de bords sur le motif dans les zones de mesure et calcule un espacement bord à bord du motif dans une paire de zones de mesure. La section de commande calcule une courbe caractéristique de bord par réalisation de la moyenne mobile avec une largeur moyenne mobile spécifiée pour un profil de bord, les bords sur le motif à l'intérieur des zones de mesure étant représentés avec des coordonnées de position de points de mesure à des intervalles spécifiés, et spécifie une position d'une valeur de pic sur la courbe caractéristique de bord en tant que position de bord sur le motif dans les zones de mesure.
(JA)本発明は、パターンのエッジ間の距離を再現性良くかつ精度良く測定することを目的とする。パターン測長装置は、電子ビームを試料上に走査しながら照射する電子ビーム照射部と、電子ビームの照射によって、パターンが形成された試料上から発生する電子の電子量を基に当該パターンの画像を取得する画像データ取得部と、パターンの画像のエッジを含む一対の測定領域を設定する測定対象領域設定部と、測定領域内のパターンのエッジ形状を検出し、一対の測定領域内のパターンのエッジ間の距離を算出する制御部とを有する。制御部は、測定領域内のパターンのエッジが所定の間隔の測定点の位置座標で示されたエッジプロファイルを所定の移動平均幅で移動平均してエッジ特性曲線を算出し、エッジ特性曲線のピーク値の位置を測定領域内におけるパターンのエッジ位置とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)