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1. WO2009112428 - PROCEDE DE PURIFICATION DE SILICIUM POUR APPLICATIONS PHOTOVOLTAIQUES

Numéro de publication WO/2009/112428
Date de publication 17.09.2009
N° de la demande internationale PCT/EP2009/052627
Date du dépôt international 05.03.2009
CIB
C01B 33/037 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
01CHIMIE INORGANIQUE
BÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33Silicium; Ses composés
02Silicium
037Purification
CPC
C01B 33/037
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; ; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
33Silicon; Compounds thereof
02Silicon
037Purification
Déposants
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) [FR]/[FR] (AllExceptUS)
  • INSTITUT POLYTECHNIQUE DE GRENOBLE [FR]/[FR] (AllExceptUS)
  • TRASSY, Christian [FR]/[FR] (UsOnly)
  • DELANNOY, Yves [FR]/[FR] (UsOnly)
Inventeurs
  • TRASSY, Christian
  • DELANNOY, Yves
Mandataires
  • WARCOIN, Jacques
Données relatives à la priorité
085169214.03.2008FR
Langue de publication Français (fr)
Langue de dépôt français (FR)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR PURIFYING SILICON FOR PHOTOVOLTAIC APPLICATIONS
(FR) PROCEDE DE PURIFICATION DE SILICIUM POUR APPLICATIONS PHOTOVOLTAIQUES
Abrégé
(EN) The invention relates to a method for purifying silicon by exposing liquid silicon (3) to a plasma (20), wherein the silicon (3) flows continuously into a channel (4) so that the free surface thereof is exposed to the plasma (20). The invention also relates to a device for implementing said method.
(FR) La présente invention porte sur un procédé de purification de silicium par exposition de silicium liquide (3) à un plasma (20), dans lequel le silicium (3) s'écoule de manière continue dans un canal (4) de telle sorte que sa surface libre soit exposée au plasma (20). L'invention porte également sur un dispositif permettant de mettre en œuvre ledit procédé.
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