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1. WO2009079636 - PROCÉDÉS ET APPAREILS POUR RÉDUIRE LA CONTAMINATION DE SUBSTRATS

Numéro de publication WO/2009/079636
Date de publication 25.06.2009
N° de la demande internationale PCT/US2008/087474
Date du dépôt international 18.12.2008
CIB
B65D 85/86 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
65MANUTENTION; EMBALLAGE; EMMAGASINAGE; MANIPULATION DES MATÉRIAUX DE FORME PLATE OU FILIFORME
DRÉCEPTACLES POUR L'EMMAGASINAGE OU LE TRANSPORT D'OBJETS OU DE MATÉRIAUX, p.ex. SACS, TONNEAUX, BOUTEILLES, BOÎTES, BIDONS, CAISSES, BOCAUX, RÉSERVOIRS, TRÉMIES OU CONTENEURS D'EXPÉDITION; ACCESSOIRES OU FERMETURES POUR CES RÉCEPTACLES; ÉLÉMENTS D'EMBALLAGE; PAQUETS
85Réceptacles, éléments d'emballage ou paquets spécialement adaptés aux objets ou aux matériaux particuliers
86pour des éléments électriques
CPC
H01L 21/67017
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
H01L 21/67769
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
677for conveying, e.g. between different workstations
67763the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
67769Storage means
Déposants
  • ENTEGRIS, INC. [US]/[US] (AllExceptUS)
  • KISHKOVICH, Oleg, P. [US]/[US] (UsOnly)
  • HALBMAIER, David, L. [US]/[US] (UsOnly)
  • GRAYFER, Anatoly [US]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • KISHKOVICH, Oleg, P.
  • HALBMAIER, David, L.
  • GRAYFER, Anatoly
Mandataires
  • CHRISTENSEN, Douglas J.
Données relatives à la priorité
61/014,70918.12.2007US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHODS AND APPARATUSES FOR CONTROLLING CONTAMINATION OF SUBSTRATES
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREILS POUR RÉDUIRE LA CONTAMINATION DE SUBSTRATS
Abrégé
(EN)
Components, systems, and methods for maintaining an extremely dry environment within substrate containers formed of polymers provides supplemental exterior gas washing of the substrate container to minimize permeation of moisture and oxygen through the polymer walls of the container and to control desorption of water entrapped in the polymer walls of the container.
(FR)
L'invention concerne des composants, des systèmes et des procédés pour maintenir un environnement extrêmement sec au sein de contenants de substrat formés de polymères, fournissant un lavage de gaz extérieur supplémentaire du contenant de substrat pour minimiser la perméation d'humidité et de l'oxygène à travers les parois polymères du contenant et pour réduire la désorption de l'eau piégée dans les parois polymères du contenant.
Également publié en tant que
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