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1. (WO2008123553) ELÉMENT ANTISALISSURE ET VERRE FEUILLETÉ UTILISANT LEDIT ÉLÉMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/123553    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/056605
Date de publication : 16.10.2008 Date de dépôt international : 02.04.2008
CIB :
C03C 17/34 (2006.01), B01J 35/02 (2006.01), C03C 27/12 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
TAKAHASHI, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUKAWA, Makoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKAHASHI, Akira; (JP).
FUKAWA, Makoto; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square 17, Kanda-konyacho Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-098416 04.04.2007 JP
2007-098417 04.04.2007 JP
Titre (EN) ANTIFOULING MEMBER AND LAMINATED GLASS USING THE SAME
(FR) ELÉMENT ANTISALISSURE ET VERRE FEUILLETÉ UTILISANT LEDIT ÉLÉMENT
(JA) 防汚性物品およびこれを用いる合わせガラス
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are an antifouling member and a laminated glass using the antifouling member. Specifically disclosed is an antifouling member comprising a glass substrate, a photocatalytically active layer formed on a surface of the glass substrate, and an overcoat layer arranged on the photocatalytically active layer. This antifouling member is characterized in that the photocatalytically active layer has a geometrical thickness of 5-500 nm. The antifouling member is further characterized in that (A) the overcoat layer contains at least one oxide selected from the group consisting of tantalum oxide, tin oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, and oxides containing silicon and tin, while having a geometrical thickness of 0.5-70 nm, or (B) the overcoat layer contains an oxide containing silicon and zirconium, while having a geometrical thickness of 0.5-150 nm. Also specifically disclosed is a laminated glass wherein the antifouling member is bonded with another glass substrate through an intermediate film in such a manner that the side opposite to the front side of the antifouling member faces the another glass substrate.
(FR)Cette invention se rapporte à un élément antisalissure et à un verre feuilleté utilisant ledit élément antisalissure. L'invention décrit spécifiquement un élément antisalissure comprenant un substrat en verre, une couche photocatalytique active formée sur une surface du substrat en verre, et une couche de placage disposée sur la couche photocatalytique active. Cet élément antisalissure est caractérisé en ce que la couche photocatalytique active a une épaisseur géométrique de 5 à 500 nm. L'élément antisalissure se caractérise par ailleurs en ce que (A) la couche de placage contient au moins un oxyde choisi dans le groupe constitué par l'oxyde de tantale, l'oxyde d'étain, le nitrure de silicium, l'oxynitrure de silicium et les oxydes contenant du silicium et de l'étain, tout en ayant une épaisseur géométrique de 0,5 à 70 nm, ou (B) la couche de placage contient un oxyde renfermant du silicium et du zirconium, tout en ayant une épaisseur géométrique de 0,5 à 150 nm. L'invention concerne par ailleurs spécifiquement un verre feuilleté dans lequel l'élément antisalissure est lié avec un autre substrat en verre par une pellicule intermédiaire de telle manière que la face opposée à la face avant de l'élément antisalissure soit située face à un autre substrat en verre.
(JA) 防汚性物品、およびこれを用いる合わせガラスの提供。  ガラス基板と、前記ガラス基板の基板面上に形成された光触媒活性層と、前記光触媒活性層の上に積層されたオーバーコート層と、を備える防汚性物品であって、 前記光触媒活性層の幾何学的膜厚が5~500nmであって、前記オーバーコート層が、(A)酸化タンタル、酸化スズ、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素およびケイ素とスズを含む酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1種の酸化物を含有し、幾何学的膜厚が0.5~70nmであるか、または(B)ケイ素とジルコニウムを含む酸化物を含有し、幾何学的膜厚が0.5~150nmである、ことを特徴とする防汚性物品。さらに、当該防汚性物品が、前記基板表面の反対側の面において、中間膜を介して他のガラス基板と積層されている合わせガラス。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)