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1. (WO2008117864) SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/117864    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/056038
Date de publication : 02.10.2008 Date de dépôt international : 28.03.2008
CIB :
G11B 5/65 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01)
Déposants : HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Naka-Ochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP) (Tous Sauf US).
ISHIBASHI, Shinichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMADA, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ISHIBASHI, Shinichi; (JP).
SHIMADA, Akira; (JP)
Mandataire : FUJIMURA, Yasuo; Room 834, Winaoyama Bldg. 2-15, Minamiaoyama 2-chome Minato-ku, Tokyo 1070062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2007-083547 28.03.2007 JP
Titre (EN) MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) 磁気記録媒体、及び磁気記録媒体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)[PROBLEMS] To suitably form a DTR medium, a patterned medium and the like by a method wherein problems of process time increase and cost increase are not easily generated. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A plurality of tracks (102), each of which is a recording region extending in a scanning direction of a magnetic head, are arranged on a vertical magnetic recording layer (22) in a direction intersecting with the scanning direction. In a guard band region (104) on the surface of the vertical magnetic recording layer (22), a groove section (202) which extends along the track (102) is formed. On a cross-section of the vertical magnetic recording layer (22) on a flat surface orthogonally intersecting with the scanning direction, the depth (D) of the deepest portion of the groove section (202) is 0.5-10nm, by having as reference an average height (broken line (302)) in the vicinity of the center in the width direction of the tracks (102) which sandwich the groove section (202). The width (W) of the region having a depth of 1/2 of the deepest portion or more in the groove section (202) is 5-30% of a track pitch (L).
(FR)L'invention vise à former de manière appropriée un support DRT, un support à motifs et similaires par un procédé dans lequel les problèmes d'augmentation de temps de traitement et d'augmentation de coût ne sont pas facilement générés. A cet effet, une pluralité de pistes (102), dont chacune est une région d'enregistrement s'étendant dans une direction de balayage d'une tête magnétique, sont disposées sur une couche d'enregistrement magnétique verticale (22) dans une direction coupant la direction de balayage. Dans une région de bande de garde (104) sur la surface de la couche d'enregistrement magnétique verticale (22), une section de rainure (202) qui s'étend le long de la piste (102) est formée. Sur une coupe transversale de la couche d'enregistrement magnétique verticale (22) sur une surface plate coupant de façon orthogonale la direction de balayage, la profondeur (D) de la partie la plus profonde de la section de rainure (202) est de 0,5-10 nm, avec comme référence une hauteur moyenne (ligne brisée (302)) au voisinage du centre dans la direction de largeur des pistes (102) qui prennent en sandwich la région de rainure (202). La largeur (W) de la région ayant une profondeur de 1/2 de la partie la plus profonde ou plus dans la section de rainure (202) est de 5-30 % d'un pas de piste (L).
(JA)[課題]工程時間の増大やコストの増大の問題が生じにくい方法により、DTR媒体やパターンド媒体等を適切に形成する。 [解決手段]垂直磁気記録層22には、磁気ヘッドの走査方向に延伸する記録領域であるトラック102が走査方向と交差する方向に複数並べて設定され、垂直磁気記録層22の表面におけるガードバンド領域104には、トラック102に沿って延伸する溝部202が形成されており、走査方向と直交する平面による垂直磁気記録層22の断面において、 溝部202を挟む複数のトラック102における幅方向中央近傍の平均高さ(破線302)を基準とした溝部202の最深部の深さDが、0.5~10nmであり、かつ、溝部202における、最深部の深さの1/2以上の深さの領域の幅Wは、トラックピッチLの5~30%である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)