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1. (WO2008059671) MATRICE DE MOULAGE POUR DISPOSITIF OPTIQUE AVEC STRUCTURE ANTIRÉFLÉCHISSANTE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2008/059671 N° de la demande internationale : PCT/JP2007/069279
Date de publication : 22.05.2008 Date de dépôt international : 02.10.2007
CIB :
B29C 33/38 (2006.01) ,G02B 1/11 (2006.01) ,B29L 11/00 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
33
Moules ou noyaux; Leurs détails ou accessoires
38
caractérisés par la matière ou le procédé de fabrication
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1
Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
10
Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci
11
Revêtements antiréfléchissants
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
L
SCHÉMA D'INDEXATION ASSOCIÉ À LA SOUS-CLASSE B29C63
11
Eléments optiques, p.ex. lentilles, prismes
Déposants :
独立行政法人産業技術総合研究所 NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 〒1008921 東京都千代田区霞が関1丁目3番1号 Tokyo 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008921, JP (AllExceptUS)
栗原 一真 KURIHARA, Kazuma [JP/JP]; JP (UsOnly)
島 隆之 SHIMA, Takayuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
富永 淳二 TOMINAGA, Junji [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
栗原 一真 KURIHARA, Kazuma; JP
島 隆之 SHIMA, Takayuki; JP
富永 淳二 TOMINAGA, Junji; JP
Données relatives à la priorité :
2006-30884215.11.2006JP
2007-11006819.04.2007JP
Titre (EN) MOLDING DIE FOR OPTICAL DEVICE WITH ANTIREFLECTIVE STRUCTURE, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND OPTICAL DEVICE
(FR) MATRICE DE MOULAGE POUR DISPOSITIF OPTIQUE AVEC STRUCTURE ANTIRÉFLÉCHISSANTE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF OPTIQUE
(JA) 反射防止構造を有する光学素子用成形型、その製造方法および光学素子
Abrégé :
(EN) A process for producing through simple operations a molding die for optical device having an antireflective structure of nano-order microscopic uneven plane on a substratum surface. The molding die (1) for optical device having microscopic uneven plane (antireflective structure die plane) (1') on a surface of substratum (2) is produced by a process comprising forming one or more etching transfer layers (3) on substratum (2); forming thin film (4) for formation of semispherical microparticles on the etching transfer layers (3); causing the thin film (4) to undergo aggregation, or decomposition, or nucleation of the material by the use of any of thermal reaction, photoreaction and gas reaction or a combination of these reactions so as to form multiple semispherical islandlike microparticles (5); and using the multiple islandlike microparticles (5) as a protective mask, carrying out sequential etching of the etching transfer layers (3) and substratum (2) by reactive gas to thereby form a conical pattern on the microscopic surface of the substratum (2).
(FR) L'invention concerne un procédé pour fabriquer par des opérations simples une matrice de moulage pour un dispositif optique ayant une structure antiréfléchissante de plan irrégulier microscopique d'ordre nanométrique sur une surface de substrat. La matrice de moulage (1) pour un dispositif optique ayant un plan irrégulier microscopique (plan de matrice de structure antiréfléchissante) (1') sur une surface de substrat (2) est obtenue par un procédé comprenant les opérations consistant à former une ou plusieurs couches de transfert d'attaque (3) sur le substrat (2) ; former un film mince (4) pour la formation de microparticules semi-sphériques sur les couches de transfert d'attaque (3) ; amener le film mince (4) à subir une agrégation, ou décomposition, ou nucléation du matériau par l'utilisation de n'importe laquelle parmi une réaction thermique, une photoréaction et une réaction de gaz ou une combinaison des ces réactions de façon à former de multiples microparticules de type île semi-sphériques (5) ; et utiliser les multiples particules de type île (5) en tant que masque protecteur, réaliser une attaque séquentielle des couches de transfert d'attaque (3) et du substrat (2) par un gaz réactif, permettant ainsi de former un motif conique sur la surface microscopique du substrat (2).
(JA)  基板表面にナノオーダーの微細な凹凸面の反射防止構造を有する光学素子用成形型を簡単な工程で作製する製造方法を実現する。  基板2上に1層以上のエッチング転写層3を形成し、このエッチング転写層3上に半球状の微粒子生成用の薄膜4を形成し、熱反応、光反応、ガス反応のいずれか、またはそれらの複合反応を用いて、薄膜4に、その物質の凝集作用、分解作用、または核形成作用を生じさせて、半球状の島状微粒子5を複数、形成し、複数の島状微粒子5を保護マスクとしてエッチング転写層3及び前記基板2を反応ガスによって順次エッチングして、基板2の微細な表面に錐形状のパターンを形成して、基板2表面に微細な凹凸面(反射防止構造型面)1’を有する光学素子用成形型1を製造する。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
US20100055397