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1. WO2008032416 - PUCE D'ALIGNEMENT POUR UNE MESURE D'ABERRATION PONCTUELLE DE MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE

Numéro de publication WO/2008/032416
Date de publication 20.03.2008
N° de la demande internationale PCT/JP2006/318796
Date du dépôt international 15.09.2006
CIB
G01N 1/00 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
1Echantillonnage; Préparation des éprouvettes pour la recherche
CPC
H01J 2237/2826
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
26Electron or ion microscopes
282Determination of microscope properties
2826Calibration
H01J 37/153
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
153Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
H01J 37/28
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
28with scanning beams
Déposants
  • 株式会社 日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 大橋 健也 OHASHI, Kenya [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 皆田 晋介 MINATA, Shinsuke [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 庄司 康則 SHOJI, Yasunori [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 中島 勝範 NAKAJIMA, Katsunori [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 大橋 健也 OHASHI, Kenya
  • 皆田 晋介 MINATA, Shinsuke
  • 庄司 康則 SHOJI, Yasunori
  • 中島 勝範 NAKAJIMA, Katsunori
Mandataires
  • 井上 学 INOUE, Manabu
Données relatives à la priorité
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) ALIGNMENT CHIP FOR SCANNING ELECTRON MICROSCOPE POINT ABERRATION MEASUREMENT
(FR) PUCE D'ALIGNEMENT POUR UNE MESURE D'ABERRATION PONCTUELLE DE MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE
(JA) 走査型電子顕微鏡点収差計測アライメントチップ
Abrégé
(EN)
Provided is an alignment chip for point aberration correction measurement for a scanning electron microscope. The alignment chip can be simply manufactured at a low cost and is provided with a novel alignment pattern suitable for point aberration correction measurement. The alignment chip has an uneven pattern on the surface, and the uneven pattern has a protruding section or a recessed section configuring a circular or polygonal closed loop.
(FR)
L'invention propose une puce d'alignement pour une mesure de correction d'aberration ponctuelle pour microscope électronique à balayage. La puce d'alignement peut être fabriquée simplement et à un faible coût, et dotée d'un nouveau motif d'alignement approprié pour une mesure de correction d'aberration ponctuelle. La surface de puce d'alignement est munie d'un motif irrégulier, qui présente une section en relief ou une section en creux configurant une boucle fermée circulaire ou polygonale.
(JA)
本発明は、走査型電子顕微鏡の点収差補正計測用のアライメントチップにおいて、低コストで簡便に作製が可能であり、点収差補正計測に適した新規なアライメントパターンを有するアライメントチップを提供することを目的とする。表面に凹凸パターンを有する走査型電子顕微鏡の点収差計測用のアライメントチップにおいて、前記凹凸パターンが円形あるいは多角形の閉ループを構成する凸部又は凹部を有するアライメントチップを特徴とする。
Également publié en tant que
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