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1. (WO2008013118) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DES LIQUIDES ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DES LIQUIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2008/013118    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/064361
Date de publication : 31.01.2008 Date de dépôt international : 20.07.2007
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (Tous Sauf US).
ITO, Norihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KANEKO, Satoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NANBA, Hiromitsu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ITO, Norihiro; (JP).
KANEKO, Satoshi; (JP).
NANBA, Hiromitsu; (JP)
Mandataire : TAKAYAMA, Hiroshi; Hirakawacho Tsujita Bldg. 2F 1-7-20 Hirakawacho, Chiyoda-ku Tokyo 1020093 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-203979 26.07.2006 JP
Titre (EN) LIQUID TREATMENT DEVICE AND LIQUID TREATMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DES LIQUIDES ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DES LIQUIDES
(JA) 液処理装置および液処理方法
Abrégé : front page image
(EN)A liquid treatment device having a substrate holding section (2) for horizontally holding a wafer (W) and capable of rotating with the wafer (W), a rotation cup (4) having an annular shape so as to surround the wafer (W) held by the substrate holding section (2) and capable of rotating with the wafer (W), a rotation mechanism (3) for integrally rotating the rotation cup (4) and the substrate holding section (2), a nozzle (5) for supplying a treatment liquid for the wafer (W) and a cleaning liquid for the rotation cup (4), a liquid supply section (85) for supplying the treatment liquid and cleaning liquid to the nozzle (5), and a nozzle movement mechanism for moving the nozzle (5) between a first position at which the liquid is discharged to the wafer (W) and a second position at which the liquid is discharged to an external portion of the rotation cup (4). The wafer (W) is treated with the liquid with the nozzle (5) positioned at the wafer treatment position, and the cleaning liquid is discharged to the external portion of the rotation cup with the nozzle (5) positioned at the rotation cup cleaning position.
(FR)Un dispositif de traitement des liquides ayant un section contenant un substrat (2) pour maintenir horizontalement une galette (W) et pouvant tourner avec la galette (W), une coupelle de rotation (4) ayant une forme annulaire de manière à entourer la galette (W) maintenue par la section contenant un substrat (2) et pouvant tourner avec la galette (W), un mécanisme de rotation (3) pour faire tourner intégralement la coupelle de rotation (4) et la section contenant un substrat (2), une buse (5) pour fournir un liquide de traitement pour la galette (W) et un liquide de nettoyage pour la coupelle de rotation (4), une section d'alimentation en liquide (85) pour fournir le liquide de traitement et le liquide de nettoyage à la buse (5), et un mécanisme de déplacement de buse pour déplacer la buse (5) entre une première position à laquelle le liquide est déchargé sur la galette (W) et une deuxième position à laquelle le liquide est déchargé sur une partie externe de la coupelle de rotation (4). La galette (W) est traitée avec le liquide avec la buse (5) placée à la position de traitement de la galette, et le liquide de nettoyage est déchargé sur la partie externe de la coupelle de rotation avec la buse (5) placée à la position de nettoyage de la coupelle de rotation.
(JA) ウエハWを水平に保持し、ウエハWとともに回転可能な基板保持部2と、基板保持部2に保持されたウエハWを囲繞するように環状をなし、ウエハWとともに回転可能な環状をなす回転カップ4と、回転カップ4および基板保持部2を一体的に回転させる回転機構3と、ウエハWの処理液および回転カップ4の洗浄液を供給するノズル5と、ノズル5へ処理液および洗浄液を供給する液供給部85と、ウエハWに液を吐出する第1の位置と回転カップ4の外側部分に液を吐出する第2の位置との間でノズル5を移動させるノズル移動機構とを具備し、ノズル5をウエハ処理位置に位置させた状態でウエハWの液処理を行い、ノズル5を回転カップ洗浄位置に位置させた状態で回転カップの外側部分へ洗浄液を吐出する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)