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1. WO2008007539 - CLICHÉ MATRICE POUR L'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE

Numéro de publication WO/2008/007539
Date de publication 17.01.2008
N° de la demande internationale PCT/JP2007/062772
Date du dépôt international 26.06.2007
CIB
B41N 1/14 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
NCLICHÉS OU PLAQUES D'IMPRESSION; MATÉRIAUX POUR SURFACES UTILISÉES DANS L'IMPRESSION POUR IMPRIMER, ENCRER, MOUILLER OU SIMILAIRE; PRÉPARATION DE TELLES SURFACES POUR LEUR EMPLOI OU LEUR CONSERVATION
1Clichés ou plaques d'impression; Matériaux à cet effet
12en une autre matière que la pierre ou le métal
14Plaques d'impression lithographiques
C08F 2/50 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
FCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2Procédés de polymérisation
46Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
48par la lumière ultraviolette ou visible
50avec des agents sensibilisants
G03F 7/00 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G03F 7/004 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
G03F 7/031 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
027Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
028avec des substances accroissant la photosensibilité, p.ex. photo-initiateurs
031Composés organiques non couverts par le groupe G03F7/02975
G03F 7/11 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
09caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
11avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
CPC
B41C 1/1008
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
1Forme preparation
10for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
1008by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
B41C 1/1016
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
1Forme preparation
10for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
1008by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
1016characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
B41C 2201/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2201Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
02Cover layers; Protective layers
B41C 2201/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2201Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
04Intermediate layers
B41C 2210/08
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2210Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
08Developable by water or the fountain solution
B41C 2210/22
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
2210Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
22characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
Déposants
  • コニカミノルタエムジー株式会社 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 伊藤 博英 ITO, Hirohide [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 伊藤 博英 ITO, Hirohide
Données relatives à la priorité
2006-19391814.07.2006JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) LITHOGRAPHIC PRINTING ORIGINAL PLATE AND LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD
(FR) CLICHÉ MATRICE POUR L'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
(JA) 平版印刷版原版及び平版印刷方法
Abrégé
(EN)
The invention provides a lithographic printing original plate which exhibits excellent on-machine developability and is excellent in sensitivity, image strength (tight adhesion to substrate), moisture resistance, and plate wear resistance; and a lithographic printing method. Specifically, a lithographic printing original plate comprising a substrate and an image recording layer formed on the substrate which comprises (A) an actinic radiation absorber, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable compound and which is removable with printing ink, dampening water, or both, characterized in that the polymerization initiator is at least one of the compounds represented by the general formulae [1] to [4].
(FR)
La présente invention concerne un cliché matrice pour l'impression lithographique qui présente une excellente aptitude au développement sur machine et d'excellentes propriétés de sensibilité, de résistance de l'image (forte adhésion au substrat), de résistance à l'humidité et de résistance à l'usure de la plaque, ainsi qu'un procédé d'impression lithographique. De manière plus spécifique, un cliché matrice pour l'impression lithographique comprenant un substrat et une couche d'enregistrement d'image formée sur le substrat comprend (A) un agent absorbant les rayons actiniques, (B) un initiateur de polymérisation et (C) un composé polymérisable pouvant être éliminé par de l'encre d'imprimerie, de l'eau de mouillage ou les deux, l'initiateur de polymérisation se caractérisant en ce qu'au moins un des composés est représenté par les formules [1] à [4].
(JA)
figure
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international